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発表年月 |
タイトル |
講演者 |
共著者 |
講演会名 |
備考 |
| 94-01 |
1994年9月 |
ラマン分光法によるＳｉクラスターの構造決定 |
小椋 |
E.C.. Honea, K. Ragavachari, W.L. Brown |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 94-02 |
1994年11月 |
ラマン分光法によるＳｉクラクターの構造決定 |
小椋 |
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JRCATワークショップ |
招待講演 |
| 95-01 |
1995年1月 |
マトリクス分離した単一サイズＳｉクラスターの研究 |
小椋 |
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理化学研究所 シンポジウム |
招待講演 |
| 95-02 |
1995年3月 |
ＳＯＩ基板表面近傍の結晶完全性の評価 |
木村 |
小椋、石川 |
応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 95-03 |
1995年3月 |
ラマン分光法によるＳｉクラスターの構造決定 |
小椋 |
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日本物理学会 年会 |
招待講演 |
| 95-04 |
1995年8月 |
電圧印加エッチストップによる貼り合わせＳＯＩの薄膜均一化 |
小椋 |
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応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 96-01 |
1996年1月 |
表面選択Ｘ線トポグラフィによるＳＯＩ基板の評価 |
木村 |
小椋、石川 |
日本放射光学会 年会 |
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| 96-02 |
1996年3月 |
低ドーズＳＩＭＯＸ基板の膜厚方向欠陥分布測定 |
小椋 |
辰巳、浜島、菊池 |
応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 96-03 |
1996年3月 |
電圧印加エッチストップによる貼り合わせＳＯＩの薄膜化 |
小椋 |
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電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 |
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| 96-04 |
1996年9月 |
電圧印加エッチストップによる貼り合わせＳＯＩの薄膜・均一化（Ⅱ） |
小椋 |
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応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 97-01 |
1997年3月 |
低ドーズSIMOXにおけるドーズウィンドウの拡大 |
小椋 |
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応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 97-02 |
1997年10月 |
酸素注入したSi基板の熱処理による酸化膜形成過程 |
小野 |
五十嵐、小椋 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 97-03 |
1997年10月 |
SOI基板に形成したLOCOS分離歪の精密測定 |
木村 |
小椋 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 97-04 |
1997年10月 |
SIMOX埋め込み酸化膜中のトラップレベル評価 |
三浦 |
小椋、浜田、北野 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 98-01 |
1998年3月 |
室温紫外線励起PLマッピングによるSOIウエハーの評価 |
田島 |
溝口、井深、藁科、小椋 |
応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 98-02 |
1998年9月 |
Deep?LevelのPLに着目したSOIウェハーの結晶性評価 |
唐沢 |
溝口、田島、藁科、小椋、松本 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 98-03 |
1998年9月 |
低ドーズSIMOXにおける埋め込み酸化膜形成過程の制御 |
小椋 |
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応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 98-04 |
1998年12月 |
SOI基板の現状とサブ0.1μmデバイス適用への課題 |
小椋 |
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日本学術振興会 第145委員会（結晶加工と評価技術） 第79回研究会 |
招待講演 |
| 99-01 |
1999年1月 |
低ドーズSIMOXにおける酸素析出過程の制御 |
小椋 |
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応用物理学会関西支部セミナー |
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| 99-02 |
1999年3月 |
ダメージピークに埋め込み酸化膜を持つSIMOX |
小椋 |
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応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 99-03 |
1999年7月 |
低ドーズＳＩＭＯＸにおける酸素析出の制御 |
小椋 |
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大阪府立大学ニューフロンティア材料研究会 第１４１回講演会 |
招待講演 |
| 99-04 |
1999年9月 |
SIMOX/BOX形成時における酸素の内方・外方拡散 |
小野 |
小椋 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 99-05 |
1999年9月 |
ＳＯＩにイオン注入したＡｓおよびＢの分布測定 |
小椋 |
廣井 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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| 99-06 |
1999年9月 |
SIMOXウェハーにおける高温熱処理過程のPL評価 |
溝口 |
田島、小椋、熊藪、滝口、和泉 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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