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発表年月 |
タイトル |
講演者 |
共著者 |
講演会名 |
備考 |
85-01 |
1985年10月 |
AlN層間絶縁膜によるSOI膜の歪低減効果 |
小椋 |
江上、木村 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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85-02 |
1985年10月 |
<100>texture poly−Si膜を用いたSSIC法の試み |
江上小椋、木村 |
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応用物理学会 秋季学術講演会 |
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86-01 |
1986年4月 |
<100>配向Ge膜の結晶粒成長 |
小椋 |
江上、木村 |
応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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86-02 |
1986年9月 |
レ―ザアニ―ルSOIの断面TEM観察 |
小椋 |
相崎、寺尾、國尾、小山、森山、榎本 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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86-03 |
1986年9月 |
MO−ALEによる3インチ基板上へのGaAs高均一成長 |
森 |
小椋、吉田、寺尾 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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86-04 |
1986年9月 |
選択反射防止膜法SOI形成における位置合わせ |
相崎 |
小椋、寺尾、國尾、小山、森山、榎本 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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86-05 |
1986年9月 |
レ―ザアニ―ルSOIの結晶面方位とMOSFET特性との関係(T) |
小山 |
國尾、森山、小椋、相崎、寺尾、榎本 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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86-06 |
1986年9月 |
レ―ザアニ―ルSOIの結晶面方位とMOSFET特性との関係(U) |
國尾 |
小山、森山、小椋、相崎、寺尾、榎本 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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87-01 |
1987年3月 |
2ステップレ―ザアニ―ル法によるSOIの種なし結晶方位制御 |
小椋 |
寺尾 |
応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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87-02 |
1987年10月 |
SOIレ―ザアニ―ルの高速度ビデオ観察 |
小椋 |
寺尾 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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87-03 |
1987年11月 |
ガスソ―スSi−MBE |
平山 |
辰巳、小椋、相崎 |
電気学会 電子材料研究会 |
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88-01 |
1988年3月 |
SiO2/Si3N4ストライプ上での<100>配向Geの結晶粒成長 |
小椋 |
相崎、寺尾 |
応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 |
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88-02 |
1988年10月 |
横方向エピタキシャル成長で形成したSOI/SiO2界面の構造 |
小椋 |
相崎、寺尾 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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89-01 |
1989年2月 |
高分解能TEMによる半導体界面の評価」 |
小椋 |
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日本学術振興会 第151委員会 |
招待講演 |
89-02 |
1989年9月 |
2ステップレーザアニール法によるSOIの種なし結晶方位制御(U) |
小椋 |
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応用物理学会 秋季学術講演会 |
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89-03 |
1989年9月 |
ELOの横/縦成長比の向上─トンネルエピタキシー─ |
藤本 |
小椋 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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89-04 |
1989年10月 |
SOI characterization and orientation control:XTEM observat ion and 2−step laser annealing |
小椋 |
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新機能素子技術シンポジウム |
招待講演 |
90-01 |
1990年1月 |
ステップレーザアニール法によるSOIの種無し結晶方位制御 |
小椋 |
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応用物理学会 応用電子物性分科会 |
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90-02 |
1990年9月 |
トンネルエピタキシーU─超薄膜SOIの形成─ |
小椋 |
藤本 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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91-01 |
1991年10月 |
トンネルエピタキシーV ─SOI領域の大面積化─ |
小椋 |
黄 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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91-02 |
1991年10月 |
SOI MOSFETにおけるカットオフ特性の検討 |
黄 |
最上、小椋、松本 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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92-01 |
1992年3月 |
SOIMOSFETのカットオフ特性の検討 |
黄 |
最上、小椋、寺田 |
電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 |
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92-02 |
1992年6月 |
トンネルエピタキシー |
小椋 |
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電気学会 超微細製造技術調査専門委員会 |
招待講演 |
92-03 |
1992年9月 |
Cu膜質の堆積温度依存性 |
古谷 |
小椋 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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92-04 |
1992年9月 |
トンネルエピタキシーW ─SOIMOSFETの試作─ |
黄 |
小椋、寺田 |
応用物理学会 秋季学術講演会 |
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