	発表年月	タイトル	講演者	共著者	講演会名	備考
08-01	2008年1月	パターン依存酸化による歪シリコンナノワイヤトランジスタの相互コンダクタンス向上評価	清家	丹下智之, 佐野一拓, 杉浦裕樹, 土田育新, 小瀬村大輔, 小椋厚志, 大泊巌	ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」第13回研究会
08-02	2008年2月	SiN 膜により導入された歪の熱処理特性評価	斎藤　博之	小椋　厚志	2007A期 SPring-8 重点産業利用課題成果報告会
08-03	2008年3月	放射光X 線トポグラフィによる歪みSi ウェーハの評価	志村考功	井上智之，岡本佑樹，細井卓治，小椋厚志，江戸太樹，飯田敏，渡部平司	春季応用物理学関係連合講演会　シンポジウム：シリコン系材料・プロセス評価の最前線－放射光利用による新展開	招待講演
08-04	2008年3月	熱処理による極薄膜SiGe層の挙動 (2)	山本　有	上林　弘和, 今井　正人, 宮村　佳児,　表　和彦, 小林　峰, 小椋　厚志	春季応用物理学関係連合講演会
08-05	2008年3月	SiN膜により導入された歪の熱処理特性の評価	斉藤博之	小瀬村大亮、掛村康人、吉田哲也、武井宗久、小椋厚志、小金沢智之、広沢一郎、鴻野真之、西田辰夫、中西敏雄	春季応用物理学関係連合講演会
08-06	2008年3月	UVラマン分光法によるB2H6/Heプラズマドーピングで形成した極浅接合領域の結晶性の評価	吉田　哲也	渡邉　将光、中川　恭成、小瀬村　大亮、掛村　康人、角嶋　邦之、水野　文二、筒井　一生、服部　健雄、岩井　洋、小椋　厚志	春季応用物理学関係連合講演会
08-07	2008年3月	UV/可視ラマン分光法によるP dope LTPS薄膜の電気伝導度と結晶性の関係評価	掛村康人	小瀬村大亮,小椋厚志, 野口隆	春季応用物理学関係連合講演会
08-08	2008年3月	スパッタによるTiNゲートプレーナMOSFETとFinFET電気特性の比較評価	林田哲郎	柳永勛、松川貴、遠藤和彦、大内真一、坂本邦博、昌原明植、石井賢一、塚田順一、石川由紀、山内洋美、小椋厚志、鈴木英一	春季応用物理学関係連合講演会
08-09	2008年3月	ゲートラストプロセスで作成されたSiN膜及びeSiGeを有するMOSFETのチャネル歪評価	武井　宗久	小瀬村　大亮、小椋　厚志	春季応用物理学関係連合講演会
08-10	2008年3月	透明ダミーゲートを有したMOSFETチャネル領域に導入された歪のUVラマン解析	小瀬村　大亮	武井　宗久、小椋　厚志、鴻野　真之、西田　辰夫、中西　敏雄	春季応用物理学関係連合講演会
08-11	2008年3月	太陽電池用多結晶Si基板の欠陥および不純物の評価	今井啓太	田中聡志、立花福久、香川泰平、増田純一、小椋厚志、大下祥雄、新船幸二、河合秀昭、田島道夫、井上雅晶	春季応用物理学関係連合講演会
08-12	2001年6月	Hf(NEt2)4を原料ガスとして用いたＨｆＯ２薄膜の堆積	大下	小椋、星野、鈴木、町田	電子情報通信学会　シリコン材料・デバイス研究会
08-13	2008年4月	UV/可視ラマン分光法によるレーザー結晶化ポリシリコン薄膜の応力・結晶性の評価	掛村康人	小椋厚志、小瀬村大亮、・野口　隆	電子通信学会　シリコン材料・デバイス研究会
08-14	2008年5月	イオンビーム照射によるタイプIV コラーゲンの生体反応性制御	志賀雄一朗	小椋厚志、戸井田浩・氏家玲奈・鈴木嘉昭	第57回高分子学会年次大会
08-15	2008年6月	ダマシンゲートプロセスとローカル歪技術を用いた高性能 Metal/High-k gate MOSFET	黛哲	山川真弥，小瀬村大亮，武井宗久，舘下八州志，塚本雅則，若林整，大野晃計，小椋厚志，長島直樹	日本学術振興会第１４５委員会　第１１４回研究会
08-16	2008年7月	ローカル歪技術を用いたダマシンゲートpMOSFETにおけるチャネル応力のゲートサイズ効果	黛哲	山川真弥，小瀬村大亮，武井宗久，舘下八州志，塚本雅則，若林整，大野晃計，小椋厚志，長島直樹	応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究集
08-17	2008年9月	薄膜SiGe層のXRDによる熱膨張係数のIn-situ測定	上林弘和	山本　有, 今井　正人, 宮村　佳児, 表　和彦, 小林　峰,　小椋　厚志	応用物理学会秋季学術講演会
08-18	2008年9月	ゲートラストプロセスで作製された高性能pMOSFETのチャネル内歪分布測定	武井宗久	小瀬村大亮、小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
08-19	2008年9月	透明ダミーゲートを有したMOSFETにおける歪導入機構の解明	小瀬村大亮	武井宗久、永田晃基、赤松弘彬、小椋厚志,　鴻野真之、西田辰夫、中西敏雄	応用物理学会秋季学術講演会
08-20	2008年9月	Si 拡散によるフェルミレベルピニングの抑制のためのDLC 薄膜の特性評価	岩下祐太	足立哲也、伊高健治、知京豊裕, 小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
08-21	2008年9月	Ar注入とSiN応力膜によるパターン付Si基板への歪記憶技術の検討	中山寛人	日野雅文, 永田晃基, 吉田哲也, 小瀬村大亮 , 角嶋邦之, ﾊﾟｰﾙﾊｯﾄ･ｱﾍﾒﾄ, 筒井一生, 杉井信之, 小椋厚志2 服部健雄, 岩井洋	応用物理学会秋季学術講演会
08-22	2008年9月	4探針FinFETを用いた論理Vth可変CMOSインバーターの作製	柳永勛	林田、松川、遠藤、大内、坂本、関川、石井、塚田、石川、山内、小椋、鈴木、昌原	応用物理学会秋季学術講演会
08-23	2001年9月	軽元素注入ダメージへの酸素析出を利用したSOI形成	小椋		応用物理学会秋季学術講演会
08-24	2008年11月	Si・O2拡散によるフェルミレベルピニング抑制のための界面層材料の特性評価	岩下祐太	足立哲也、伊高健治、知京豊裕、小椋厚志	日本電子材料技術協会の秋季講演大会
08-25	2008年11月	歪計測技術の現状と期待	小椋厚志		つくば半導体コンソーシアム　半導体計測・評価技術ネットワーク第3回ワークショップ
09-01	2009年1月	(100)面もしくは(110)面上に作成された歪ナノワイヤトランジスタにおける相互コンダクタンスの向上評価	清家綾	清家綾, 土田育新, 高井一 , 小瀬村大亮, 小椋厚志, 渡邉孝信, 大泊巌	応用物理学会薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会
09-02	2009年1月	歪SiナノワイヤＦＥＴsの低温測定による電気伝導特性の評価	杉浦裕樹	清家綾, 土田育新, 高井一 , 小瀬村大亮, 小椋厚志, 渡邉孝信, 大泊巌	応用物理学会薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会