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発表年月 |
タイトル |
講演者 |
共著者 |
講演会名 |
備考 |
| 04-01 |
2004年1月 |
陽電子消滅法を用いたHigh-k膜の欠陥解析 |
上殿 |
服部、小椋、工藤、西川、大平、鈴木、三角 |
極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性(第８回研究会) |
招待講演 |
| 04-02 |
2004年3月 |
ラマン分光法による歪Si/SiGe/Si基板の歪測定における励起光波長の選択 |
小椋 |
上嶋、山本、中島、山本 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-03 |
2004年3月 |
DUVラマン分光とVISラマンイメージによる歪Si/GeSi/Si基板の評価 |
中島 |
山本、小椋、上嶋、山本 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-04 |
2004年3月 |
線照射Raman測定による歪Si/SiGe/Si基板の結晶性評価 |
山本 |
中島、小椋、上嶋、山本 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-05 |
2004年3月 |
放射光X線回折法による歪Si/SiGe/Si基板（市販）の格子歪み評価 (I) -広域構造 |
福田 |
富田、原、津坂、篭島、松井、小椋 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-06 |
2004年3月 |
放射光X線回折法による歪Si/SiGe/Si基板（市販）の格子歪み評価 (Ⅱ) ?局所構造 |
福田 |
富田、原、津坂、篭島、松井、小椋 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-07 |
2004年3月 |
SOI のPLを用いた表面酸化膜の評価 |
満山 |
李、田島、小椋 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-08 |
2004年3月 |
Photoluminescence Characterization of Strained Si/SiGe Heterostructure |
李 |
満山、田島、藁品、小椋 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-09 |
2004年3月 |
MOCVD法によるNiの成膜 |
石川 |
加田、町田、小椋、大下 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 04-10 |
2004年9月 |
PL法によるSGOI及びSSOIウェーハの評価 |
満山 |
李、田島、大西、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 04-11 |
2004年9月 |
紫外ラマン分光による歪Si/Si1-xGex/Si構造の組成、欠陥の空間分布解析 |
三谷 |
中島、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 04-12 |
2004年9月 |
Ni(PF3)4を用いたNi薄膜の堆積 |
石川 |
加田、町田、小椋、大下 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 04-13 |
2004年9月 |
放射光X線回折法による歪みSi/SiGe/Si基板(市販)の格子歪み評価 (III) ウエーハ断面のX線回折 |
富田 |
福田、津坂、篭島、松井、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 04-14 |
2004年12月 |
先端機能性ウェーハの現状 －SOI/歪Si/(110)Si |
小椋 |
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SEMICON Japan 2004併設プログラム |
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| 05-01 |
2005年3月 |
放射光X線回折法による歪みSi/SiGe/Si基板(市販)の格子歪み評価 (Ⅳ) 歪みSi層の結晶性評価 |
富田 |
林、安井、吉田、福田、津坂、篭島、松井、小椋 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 05-02 |
2005年3月 |
Ni(PF3)4を用いたNi薄膜の堆積Ⅱ |
石川 |
町田、小椋、大下 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 05-03 |
2005年9月 |
CVDによるNiシリサイドゲート電極の堆積 |
石川 |
村本、町田、今井、小椋、大下 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 05-04 |
2005年9月 |
W成膜のための液体CVD原料： i-PrCp2WH2 |
今井 |
村本、石川、町田、小椋、大下 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 05-05 |
2005年9月 |
Si中のローカル／グローバル歪測定のための高性能UV-ラマン分光システムの開発 |
千葉 |
清水、山崎、小瀬村、田中、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 05-06 |
2005年9月 |
UV-ラマン分光法を用いた歪Si基板のRTAプロセスによる歪緩和評価 |
山崎 |
小瀬村、田中、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 05-07 |
2005年10月 |
デバイス開発のための表面・界面分析技術 －Si結晶、基板 |
小椋 |
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第26回表面科学セミナー （表面科学会） |
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| 05-08 |
2005年12月 |
JEITAにおける超薄膜SOIおよび歪Siウェーハの標準化の現状 |
小椋 |
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SEMICON Japan 2005併設プログラム |
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| 06-01 |
2006年2月 |
イントロダクトリートーク |
小椋 |
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日本学術振興会 結晶加工と評価技術第145委員会 第105回研究会 |
招待講演 |
| 06-02 |
2006年2月 |
次世代向けウェハの現状と課題 |
小椋 |
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日本学術振興会 結晶加工と評価技術第145委員会 第105回研究会 |
招待講演 |
| 06-03 |
2006年3月 |
太陽電池用多結晶Siの欠陥部分のPLマッピング／スペクトル解析 |
井上 |
杉本、田島、大下、小椋 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 06-04 |
2006年3月 |
X線in-plane回折による歪Si基板の深さ方向歪分布測定 |
小瀬村 |
山崎、田中、小椋、広沢 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 06-05 |
2006年3月 |
UV-ラマンマッピング法による歪Si基板の歪分布 |
山崎 |
小瀬村、田中、小椋 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 06-06 |
2006年3月 |
高分解能RBS による歪Si の歪み評価 |
一原 |
小林、牟礼、藤川、笹川、小椋、木村 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 06-07 |
2006年3月 |
SOIおよび歪Si基板技術の動向と評価技術 |
小椋 |
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春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 06-08 |
2006年3月 |
CVDによるNiシリサイドの堆積 |
石川 |
村本、町田、今井、小椋、大下 |
春季応用物理学関係連合講演会 |
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| 06-09 |
2006年8月 |
UV/可視-ラマン分光によるSi3N4/Si界面歪の評価 |
小瀬村 |
山崎、掛村、吉田、小椋、 内田、 服部、 吉丸 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-10 |
2006年8月 |
In-plane X線回折法によるローカルおよびグローバル歪の評価 |
山崎 |
小瀬村、掛村、吉田、小椋、 廣沢、 北野 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-11 |
2006年8月 |
UVラマン分光によるHfSiO(N)/Si界面の評価 |
吉田 |
吉田、山崎、小瀬村、掛村、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-12 |
2006年8月 |
太陽電池用多結晶Siの欠陥領域の低温PLマッピング解析 |
井上 |
杉本、 田島、 大下、 小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-13 |
2006年8月 |
高圧水蒸気により形成されたシリコン酸化膜の硬X線励起Si1sスペクトル観察 |
山本 |
斎、 田中、 広沢、 池永、 大下、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-14 |
2006年8月 |
CVDによるNiシリサイドの堆積Ⅱ |
石川 |
村本、町田、今井、小椋、大下 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-15 |
2006年8月 |
微小pnダイオードアレイによる太陽電池用多結晶Siの評価 |
田中 |
今井、小椋、大下、新船、河合、楠岡、田島、井上 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-16 |
2006年8月 |
極端に非対称なＸ線回折法を用いたシリコン高圧酸化膜の界面格子歪評価 |
吉田 |
秋本、伊藤、榎本、山本、大下、小椋 |
応用物理学会秋季学術講演会 |
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| 06-17 |
2006年9月 |
Si基板に導入されたローカル/グローバル歪の高精度分布測定 |
小瀬村 |
山崎、掛村、吉田、小椋 |
STARCシンポジウム |
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| 06-18 |
2006年9月 |
HfSiO(N)/Si界面歪のUV-ラマン分光およびin-plane Ｘ線回折による評価 |
吉田 |
小瀬村、山崎、掛村、小椋 |
STARCシンポジウム |
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| 06-19 |
2006年11月 |
グローバルおよびローカル歪の測定 －ラマン分光法とSPring-8の比較、得失について |
小椋 |
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SPring-8 ナノテク総合支援プロジェクトワークショップ |
招待講演 |
