| 国内学会 94～99年 | 2011/4/11 更新 | ||||
| 発表年月 | タイトル | 講演者 | 共著者 | 講演会名 | 備考 |
| 1994年9月 | ラマン分光法によるＳｉクラスターの構造決定 | 小椋 | E.C.. Honea, K. Ragavachari, W.L. Brown | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |
| 1994年11月 | ラマン分光法によるＳｉクラクターの構造決定 | 小椋 | JRCATワークショップ | 招待講演 | |
| 1995年1月 | マトリクス分離した単一サイズＳｉクラスターの研究 | 小椋 | 理化学研究所 シンポジウム | 招待講演 | |
| 1995年3月 | ＳＯＩ基板表面近傍の結晶完全性の評価 | 木村 | 小椋、石川 | 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 | |
| 1995年3月 | ラマン分光法によるＳｉクラスターの構造決定 | 小椋 | 日本物理学会 年会 | 招待講演 | |
| 1995年8月 | 電圧印加エッチストップによる貼り合わせＳＯＩの薄膜均一化 | 小椋 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | ||
| 1996年1月 | 表面選択Ｘ線トポグラフィによるＳＯＩ基板の評価 | 木村 | 小椋、石川 | 日本放射光学会 年会 | |
| 1996年3月 | 低ドーズＳＩＭＯＸ基板の膜厚方向欠陥分布測定 | 小椋 | 辰巳、浜島、菊池 | 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 | |
| 1996年3月 | 電圧印加エッチストップによる貼り合わせＳＯＩの薄膜化 | 小椋 | 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 | ||
| 1996年9月 | 電圧印加エッチストップによる貼り合わせＳＯＩの薄膜・均一化（Ⅱ） | 小椋 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | ||
| 1997年3月 | 低ドーズSIMOXにおけるドーズウィンドウの拡大 | 小椋 | 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 | ||
| 1997年10月 | 酸素注入したSi基板の熱処理による酸化膜形成過程 | 小野 | 五十嵐、小椋 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |
| 1997年10月 | SOI基板に形成したLOCOS分離歪の精密測定 | 木村 | 小椋 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |
| 1997年10月 | SIMOX埋め込み酸化膜中のトラップレベル評価 | 三浦 | 小椋、浜田、北野 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |
| 1998年3月 | 室温紫外線励起PLマッピングによるSOIウエハーの評価 | 田島 | 溝口、井深、藁科、小椋 | 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 | |
| 1998年9月 | Deep‑LevelのPLに着目したSOIウェハーの結晶性評価 | 唐沢 | 溝口、田島、藁科、小椋、松本 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |
| 1998年9月 | 低ドーズSIMOXにおける埋め込み酸化膜形成過程の制御 | 小椋 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | ||
| 1998年12月 | SOI基板の現状とサブ0.1μmデバイス適用への課題 | 小椋 | 日本学術振興会 第145委員会（結晶加工と評価技術） 第79回研究会 | 招待講演 | |
| 1999年1月 | 低ドーズSIMOXにおける酸素析出過程の制御 | 小椋 | 応用物理学会関西支部セミナー | ||
| 1999年3月 | ダメージピークに埋め込み酸化膜を持つSIMOX | 小椋 | 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 | ||
| 1999年7月 | 低ドーズＳＩＭＯＸにおける酸素析出の制御 | 小椋 | 大阪府立大学ニューフロンティア材料研究会 第１４１回講演会 | 招待講演 | |
| 1999年9月 | SIMOX/BOX形成時における酸素の内方・外方拡散 | 小野 | 小椋 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |
| 1999年9月 | ＳＯＩにイオン注入したＡｓおよびＢの分布測定 | 小椋 | 廣井 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |
| 1999年9月 | SIMOXウェハーにおける高温熱処理過程のPL評価 | 溝口 | 田島、小椋、熊藪、滝口、和泉 | 応用物理学会 秋季学術講演会 | |