国内学会　10〜11年				2013/6/24 更新
発表年月	タイトル	講演者	共著者	講演会名	備考
2010年1月6日	CCD 型検出器を用いた高角度分解能マイクロＸ線回折計	今井 康彦	木村 滋、 坂田 修身、 田尻　寛男、 酒井　朗、 小瀬村　大亮、 小椋　厚志	第23回日本放射光学会・放射光科学合同シンポジウム
2010年1月22日	歪SiナノワイヤFETにおけるチャネル方向とウエハ面方位が相互コンダクタンスに与える影響評	高井 一	清家　綾、土田 育新、増田 純一、小瀬村 大亮、小椋 厚志、大泊　巌、渡邉 孝信	応用物理学会　薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会 「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第１５回研究会）
2010年3月18日	多結晶Si中の軽元素および析出物のミクロ分布	小野 春彦	加藤 千尋，石塚 貴英，新船 幸二，大下 祥雄，小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月18日	キャスト法成長した多結晶シリコン中の軽元素分布	石塚 貴英	小椋厚志，新船幸二，大下祥雄，小野春彦	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	組成傾斜膜法によるDRAMキャパシタ用Zr-Ta-Y-O系誘電体膜の材料探索	清田 祐司	伊高 健治, 岩下 祐太, 足立 哲也, 知京 豊裕, 小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	フォトルミネッセンスによる太陽電池用Siの不純物定量	岩井 隆晃	田島　道夫,　小椋　厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	原子スケールで平坦なSiO2/Si界面極近傍における歪評価	服部 真季	小瀬村 大亮, 武井 宗久, 永田 晃基, 赤松 弘彬, 小椋 厚志, 諏訪 智之, 寺本 章伸, 服部 健雄, 大見 忠弘, 小金澤 智之, 廣沢 一郎	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	高NA液浸レンズを用いた異方性２軸応力のラマン分光評価（２）	小瀬村 大亮	武井 宗久、永田 晃基、赤松 弘彬、清水 良祐、小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	EBSP 法によるグローバル／ローカル歪Si の評価	富田 基裕	小瀬村 大亮、武井 宗久、永田 晃基、赤松 弘彬、小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	液浸レンズを備えたラマン分光装置によるダマシンゲートMOSFETのチャネル歪測定	武井 宗久	小瀬村大亮, 永田晃基, 赤松弘彬, 小椋厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	多結晶シリコン基板中に存在するΣ9粒界の応力分布と粒界構造の評価	立花 福久	増田 純一,新船 幸二, 大下 祥雄，小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	TDMAT を用いたALD-TiN の熱処理効果およびゲート電極材料への応用（２）	林田 哲郎	遠藤和彦、柳永��、亀井貴弘、松川貴、大内真一、坂本邦博、塚田順一、石川由紀、山内洋美、小椋厚志、昌原明植	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	ラマン分光法を用いたSMTプロセスにおける歪導入機構の解明	永田 晃基	小瀬村 大亮, 小椋 厚志,中山 寛人, 杉井 信之, 岩井 洋	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	プラズマ処理によりシュリンク率を制御したSOG 膜が誘起する応力の評価	永田 晃基	小瀬村 大亮，武井 宗久，赤松 弘彬，服部 真季，水上 雄輝，小椋 厚志，小金澤 智之，町田 雅武，孫 珍永，廣澤 一郎，西田 辰夫，塩澤 俊彦，片山 大介，佐藤 吉宏，廣田 良浩	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	CVD法によるGeSbTe膜の組成制御	浜田 せいち	堀池 喬文，石川 真人，町田 英明，小椋 厚志，大下 祥雄	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	HfO2 膜へのTaOxキャップ層形成による各界面層の変化	岩下 祐太	キーミンク サンダー、生田目 俊秀、佐藤 岳志、松本 弘昭、小椋 厚志、知京 豊裕	春季応用物理学関係連合講演会
2010年3月17日	PVD-TiN ウェットエッチングによる20-nm ゲートFinFET の作製	柳　永��	亀井貴弘，遠藤和彦，大内真一，塚田順一，山内洋美，林田哲郎，石川由紀，松川　貴，坂本邦博，小椋厚志，昌原明植	春季応用物理学関係連合講演会
2010年5月26日	高分子材料へのイオンビーム照射法を用いた新規３次元細胞スキャフォールドの構築	森崎真也	真野大輔、小椋厚志、田中俊行、水谷恭一郎、鈴木嘉昭、櫻木一志	第59回高分子学会年次大会
2010年9月14日	EBSP 法および超解像ラマン分光法による異方性2 次元応力の評価	富田 基裕	小瀬村大亮，武井宗久，永田晃基，赤松弘彬，小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月14日	液浸ラマン分光法によるTEM 試料の応力緩和率の定量評価	小瀬村 大亮	武井宗久，永田晃基，赤松弘彬，小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月14日	ラマン分光法によるナノ領域歪解析手法の検討	武井 宗久	赤松弘彬，永田晃基，小瀬村大亮，小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月15日	結晶シリコン太陽電池パッシベーション膜の固定電荷制御	立花 福久	清田祐司，鮫島　崇，岩下祐太，知京豊裕，吉田晴彦，新船幸二，佐藤真一，小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月15日	プラズマ処理によりシュリンク率を抑制したSOG膜がSTIに誘起する応力の評価	水上 雄輝	永田晃基，武井宗久，赤松弘彬，服部真季，小瀬村大亮，小椋厚志，西田辰夫，塩澤俊彦，片山大介，佐藤吉宏，廣田良浩，小金澤智之，町田雅武，孫　珍永，廣澤一郎	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月15日	太陽電池用多結晶Siにおける高温熱処理が少数キャリア再結合に与える効果	鮫島 崇	立花福久，大下祥雄，新船幸二，小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月16日	高分子材料へのイオンビーム照射法を用いた新規3次元生体適合材料への応用	森崎 真也	真野大輔，小椋厚志，田中俊行，水谷恭一郎，鈴木嘉昭，櫻木一志	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月16日	Ｌラクチド・ε−カプロラクトン共重合フィルムへのイオンビーム照射による生体反応性制御	眞野 大輔	森崎真也，小椋厚志，田中俊行，水谷恭一郎，桜木一志，鈴木嘉昭，氏家　弘	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月16日	CVD法による組成制御GeSbTe膜の高アスペクト比ホール埋め込み	堀池 喬文	浜田せいち，澤本直美，町田英明，石川真人，大下祥雄，小椋厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2010年9月17日	n+-poly-Si/PVD-TiNゲートスタックを用いた20nmゲートFinFETの作製および移動度評価	亀井 貴弘	Yongxun Liu，遠藤和彦，大内真一，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，松川　貴，坂本邦博，小椋厚志，昌原明植	応用物理学会秋季学術講演会
2010年10月13日	多結晶シリコン中の軽元素の分析評価	小野 春彦	加藤　千尋、石塚　貴英、小椋　厚志	神奈川ものづくり交流会「太陽電池技術フォーラム」
2010年10月21日	先端LSIにおけるチャネル歪評価	小椋 厚志	小瀬村大亮、武井宗久、富田基裕	電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
2010年10月21日	液浸ラマン分光法による異方性2軸応力評価	小瀬村 大亮	小椋厚志	電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
2010年10月22日	原子スケールで平坦なSiO2/Si酸化膜界面歪の評価	服部 真季	小瀬村大亮、武井宗久、永田晃基、赤松弘彬、富田基裕、水上雄輝、橋口裕樹、山口拓也、小椋厚志、諏訪智之、寺本章伸、服部健雄、大見忠弘、小金澤智之	電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
2010年11月19日	組成傾斜膜法を用いたZrO2系DRAMキャパシタ用誘電体膜の材料探索	清田 祐司	伊高 健治, 岩下 祐太, 足立 哲也, 知京 豊裕, 小椋 厚志	第47回日本電子材料技術協会秋期講演大会
2010年11月19日	Si系太陽電池パッシベーション層における固定電荷制御	池野 成裕	岩下 祐太, 清田 祐司, 知京 豊裕, 小椋 厚志	第47回日本電子材料技術協会秋期講演大会
2010年12月22日	Ion Beam Modification of Polyester Fiber for Three-Dimensional Scaffold	S. Morisaki	D. Mano, A. Ogura, S. Hamago, T. Tanaka, Y. Suzuki	日本MRS学術シンポジウム
2011年3月1日	PVD-TiNゲートFinFET電気特性のRTA温度依存性	亀井 貴弘	柳永��，遠藤和彦，大内真一，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，松川貴，坂本邦博，小椋厚志，昌原明植	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月1日	種結晶を用いて一方向凝固法で作製したシリコン基板の評価	立花 福久	鮫島崇，小島拓人，新船幸二，柿本浩一，宮村佳児，原田博文，関口隆史，大下祥雄，小椋厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月24日	ラマン分光法およびEBSPによる多結晶シリコンの各種面方位における応力テンソル解析	武井 宗久	鮫島崇, 永田晃基, 小瀬村大亮, 小椋厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月24日	液浸ラマン分光法によるSi のせん断応力評価	小瀬村 大亮	武井 宗久、永田 晃基、赤松 弘彬、富田 基裕、小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月24日	有限要素シミュレーションおよびEBSP測定を用いたSi中の異方性応力に関する考察	富田 基裕	小瀬村　太亮、　武井　宗久、　永田　晃基、　赤松　弘彬、　小椋　厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	ナノクリスタルSiにおける量子閉じ込め効果のラマン分光測定	水上 雄輝	小瀬村　大亮、沼澤　陽一郎、大下　祥雄、小椋　厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	ALD 法により製膜したAlOx パッシベーション膜の評価	新船　幸二	松谷亮佑、�M野純平、吉田晴彦、立花福久、小椋厚志、松本 和大 、高橋宏輔 、大下祥雄 、佐藤真一	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	PTFEフェルトへのイオンビーム照射法を用いた組織適合性の改善	森崎 真也	真野大輔，小椋厚志，濱子峻輔，田中俊行，鈴木嘉昭	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	CVD法によるGeSbTe膜の高アスペクト比ホール内組成制御	宇納 知寛	堀池 喬文，浜田 せいち ，澤本 直美，須藤　弘，石川 真人，町田 英明，大下 祥雄，小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	極微FinFET の電気特性ばらつき評価	柳 永��	遠藤和彦，大内真一，亀井貴弘，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，坂本邦博，松川　貴，小椋厚志，昌原明植	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	Fin 高さ制御による高ノイズ耐性FinFET SRAM の作製	柳 永��	遠藤和彦，大内真一，亀井貴弘，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，坂本邦博，松川　貴，小椋厚志，昌原明植	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	PVD-TiN ゲートFinFET 電気特性のRTA 温度依存性	亀井 貴弘	柳　永��，遠藤和彦，大内真一，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，松川　貴，坂本邦博，小椋厚志，昌原明稙	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	ALD 法により製膜したAlOxパッシベーション膜の評価	新船 幸二	松谷亮佑，�M野純平，吉田晴彦，立花福久，小椋厚志，松本和大，高橋宏輔，大下祥雄，佐藤真一	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月25日	３次元トンネル領域を持つフローティングゲート(FG) 型メモリキャパシタの 作製及び電気特性評価	郭 若峰	柳 永��，亀井 貴弘，松川 貴，遠藤 和彦，大内 真一，塚田 順一，山内 洋美，石川 由記，林田 哲郎，坂本 邦博，小椋 厚志，昌原 明植	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月26日	110禁制反射XRDを用いた原子レベルで平坦なSiO2/Si界面における歪の評価	永田 晃基	服部 真季，小瀬村 大亮，武井 宗久，小椋 厚志，小金澤 智之，廣澤 一郎，諏訪 智之，寺本 章伸， 服部 健雄，大見 忠弘	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月26日	フォトルミネッセンスによる低純度太陽電池用Siの不純物評価	岩井 隆晃	田島　道夫,　小椋　厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月27日	多結晶Siにおける小角粒界近傍の深い準位の室温フォトルミネッセンス解	岡山 太	岩田 恭彰,　田島 道夫,　大下 祥雄,　小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月27日	種結晶を用いて一方向凝固法で作製したシリコン基板の評価	立花 福久	鮫島 崇，小島 拓人，新船 幸二，柿本 浩一，宮村 佳児，原田 博文，関口 隆史，大下 祥雄，小椋 厚志	春季応用物理学関係連合講演会
2011年3月27日	多結晶Si中のNNとNNOの分布	楠木 宏毅	石塚 貴英、小椋 厚志、小野 春彦	春季応用物理学関係連合講演会
2011年6月30日	２層a-SiNxH膜による低反射防止構造の検討	門田 昌郎	新船 幸二、吉田 晴彦、小椋 厚志、佐藤 真一	日本学術振興会175委員会
2011年8月31日	GCIB酸素照射によるMANOSメモリ用Al2O3膜の改質効果	永田 晃基	橋口 裕樹，山口 拓也，小椋　厚志，陰地 宏，孫 珍永，広沢　一郎，田中 義嗣，廣田 良浩，John Gumpher，山下 浩二	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	ポリシリコンチャネルFinFET及びTri-gateフラッシュメモリの電気特性ばらつき評価	柳 永��	亀井 貴弘，松川 貴，遠藤 和彦，大内 真一，塚田 順一，山内 洋美，石川 由紀，林田 哲郎，坂本 邦博，小椋 厚志，昌原 明植	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	スプリット/スタック型Tri-gateフラッシュメモリ電気特性の比較評価	亀井 貴弘	柳 永��，松川 貴，遠藤 和彦，大内 真一，塚田 順一，山内 洋美，石川 由紀，林田 哲郎，坂本　邦博，小椋 厚志，昌原 明稙	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	Poly-Si/PVD-TiNゲートFinFET電気特性のFin高さ依存性	林田 哲郎	遠藤 和彦3，柳 永��3，大内 真一3，松川 貴3，水林 亘3， 右田真司3，森田行則3，太田裕之3，橋口裕樹1， 小瀬村大亮，亀井貴弘，塚田順一，石川由紀，山内洋美，小椋厚志，昌原明埴	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	ラマン分光法による市販32nmノードCMOSのチャネル歪測定	武井 宗久	山口 拓也，橋口 祐樹，小瀬村　大亮，小椋 厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	水素プラズマ表面処理とシランガスからの化学気相成長で作製されたナノクリスタルSiドットの光学的研究	水上 雄輝	小瀬村 大亮，沼沢 陽一郎，大下 祥雄，小椋　厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	太陽電池用多結晶Si 中の小角粒界における金属不純物が少数キャリア再結合に与える影響	鮫島 崇	土屋 佑樹，宮崎 直人，立花 福久，大下 祥雄，新船 幸二，小椋 厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	種結晶を用いて作製したシリコン基板中の結晶欠陥に関する評価(2)	立花 福久	鮫島 崇，小島 拓人，新船 幸二，柿本 浩一，宮村 佳児，原田 博文，関口 隆史，大下 祥雄，小椋 厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月1日	アルミゲッタリングによる太陽電池用多結晶Si中の結晶粒界での少数キャリア再結合の挙動	宮崎 直人	土屋 佑樹，鮫島 崇，立花 福久，大下 祥雄，新船 幸二，小椋 厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月2日	コンビナトリアル手法を用いた結晶Si 太陽電池におけるZrO2 系パッシベーション材料の探索	池野 成裕	立花 福久，Hyunju Lee，吉田 晴彦，新船 幸二，佐藤 真一，知京 豊裕，小椋 厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月2日	Aluminum Oxide Thin Films Deposited by O3 Based ALD for Crystalline Silicon	ヒュンジュ リ	Naomi Sawamoto1,5，Tomihisa Tachibana1,5， Norihiro Ikeno1,5，Koji Arafune2,5， Haruhiko Yoshida，Shin-ichi Satoh，Kazuhiro Matsumoto，Kousuke Takahashi，Toyohiro Chikyow，Atsushi Ogura	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月2日	ALD法により製膜したAlOxパッシベーション膜の製膜温度依存性	新船 幸二	三木 祥平，松谷 亮佑，�M野 純平，吉田 晴彦，立花 福久，小椋 厚志，松本 和大，高橋 宏輔，大下 祥雄，佐藤 真一	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月2日	プラズマ処理によるSOG膜埋め込みSTIの応力低減	橋口 裕樹	永田 晃基，鮫島 崇，水上 雄輝，小椋 厚志，黒田 豪，佐藤 吉宏，石塚 修一，廣田 良浩	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月2日	プラズマ酸化プロセスで作製されたSiO2膜の評価	山口 拓也	永田 晃基，小椋 厚志，小金沢 智之，廣沢 一郎，壁 義郎，佐藤 吉宏，石塚 修一，廣田 良浩	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月2日	異方的SSOI層の軸分解ラマン測定	小瀬村 大亮	富田 基裕，臼田 宏治，小椋　厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月2日	液浸技術および超解像技術を用いたラマン分光法の高空間分解能化	富田 基裕	橋口 裕樹，山口 拓也，武井 宗久，小瀬村 大亮，小椋 厚志	応用物理学会秋季学術講演会
2011年9月8日	放射光を用いたLSI絶縁膜プロセスの評価	永田 晃基	小椋　厚志	第８回SPring-8産業利用報告会
2011年10月21日	32nmノードCMOSFETのチャネルひずみ評価	武井宗久	橋口裕樹、山口拓也、小瀬村大亮、永田晃基、小椋厚志	電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会
2011年11月10日	スカベンジング効果を用いたHfO2/Si界面のSiO2の薄膜化	小橋 和義	長田 貴弘、岩下 祐太、池野 成裕、足立 哲也、小椋 厚志、知京 豊裕	日本電子材料技術協会　第48回秋期講演大会
2011年11月22日	PTFEフェルトへのイオンビーム照射法を用いた生体適合性の改善	森崎 真也	小椋 厚志，濱子 峻輔，山田 あかり，田中 俊行，水谷 恭一郎，鈴木 嘉昭，福留 明	第33回日本バイオマテリアル学会大会