国内学会　07～09年 2011/4/11 更新
発表年月 タイトル 講演者 共著者 講演会名 備考
2007年3月 固体グリーンレーザーアニールで結晶化したpoly-Si薄膜のUV/可視ラマン分光法による評価 掛村 山崎，小瀬村，吉田，小椋，正木，西田，川上，山本
 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年3月 ＵＶラマン分光法によるNH*直接窒化Si3N4/Si界面の評価 吉田 山崎、小瀬村、掛村、小椋、 新谷、樋口、須川、寺本、大見、服部
 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年3月 擬似線状光源UV-ラマン分光法を用いたSi3N4パターン膜によるSi最表面歪分布の評価 小瀬村 山崎、掛村、吉田、小椋、　鴻野、西田、中西
 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年3月 高速駆動ミラーによる擬似線状光源を持つラマン顕微鏡の開発 清水 千葉、菅野、小瀬村、山崎、掛村、吉田、小椋
 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年3月 ラマン分光法による太陽電池用多結晶Si基板の評価 田中 今井、小椋、大下、新船、河合 、楠岡、田島、井上
 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年3月 放射光を利用した太陽電池用多結晶シリコンの評価 大下 新船、小椋、寺田、久芳 春季応用物理学関係連合講演会 招待講演
2007年3月 太陽電池用多結晶シリコンの評価：(1) 鉄析出物の観察 河合 新船、齋、小椋、大下、山口 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年3月 放射光X 線マイクロビームとトポグラフィによる歪みSi ウェーハの評価 志村 川村、浅川、渡部、安武、小椋、福田、坂田、木村 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年3月 TiNゲートMOSFET電気特性のRTA処理温度依存性 林田 柳、松川、遠藤、昌原、大内、石井、塚田、石川、小椋、鈴木 春季応用物理学関係連合講演会 　
2007年5月 TEMによる太陽電池用多結晶Si基板の評価 香川 田中、黒崎、小椋、大下、新船、久芳
 日本顕微鏡学会第６３回学術講演会 　
2007年9月 SiNパターン膜により導入されたSOI表面の歪分布評価 小瀬村 掛村、吉田、小椋、内田、服部、吉丸 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 ラマン分光法による太陽電池用多結晶Si基板の評価(2) 田中 今井、小椋、大下、新船、　河合 、田島、井上 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 多結晶Siウエハーの転位起因フォトルミネッセンスの温度依存性 井上 杉本, 田島, 大下, 小椋 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 Pt(PF3)4/Ni(PF3)4を用いたNi-Pt薄膜の堆積 今井 石川，村本，町田，小椋，大下 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 sc-SSOI(超臨界膜厚SSOI)基板の評価 吉田 小瀬村, 　掛村,　武井, 斎藤, 小椋,　志村, 小金澤, 広沢 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 固体グリーンレーザーアニールで結晶化したpoly-Si薄膜のUV/可視ラマン分光法による評価（２） 掛村 小瀬村，斉藤，吉田，小椋，正木，西田，川上，山本  応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 BPSG上のSi薄膜にストレッサーで歪導入したSSOI構造の評価 黒崎 小瀬村、小椋、Ya-Hong Xie、Jeehwan Kim 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 高移動度LSIに用いられるSiN歪印加膜の密度評価 斉藤
小瀬村、掛村、黒崎、吉田、武井、小椋、小金沢、広沢、鴻野、西田、中西
応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 極薄膜SiGe層のXRDによる歪み測定 上林 山本, 今井, 宮村, 小椋、小林 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 熱処理による極薄膜SiGe層の挙動 山本 上林, 今井, 宮村, 小林, 小椋 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 スパッタによるTiNメタルゲートを有するMOSFET電気特性の窒素流量依存性 林田 柳、松川、遠藤、大内、坂本、昌原、石井、塚田、　石川、山内、小椋、鈴木 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 広領域X線トポグラフィによる歪みSiウェーハの結晶性評価 井上 岡本，志村，渡部，小椋，江戸，飯田 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 n型nanowireFETsおける熱酸化膜起因の歪がトランスコンダクタンスに与える影響調査 清家 丹下,　佐野,　杉浦,　小瀬村，　小椋，　大泊 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 窒素流量制御によるPVD TiNメタルゲートを持つFinFET CMOSの電気特性評価 柳 林田、松川、遠藤、大内、坂本、昌原、石井、塚田、石川、山内、小椋、鈴木 応用物理学会秋季学術講演会 　
2007年9月 基板およびプロセス歪の非破壊高精度分布測定 小椋 小瀬村、掛村、吉田、吉丸、内田、服部 STARCシンポジウム 　
2007年9月 UV-ラマンマッピング測定によるSi中の応力・結晶性の分布測定 吉田 　 STARCシンポジウム 　
2007年9月 SiNパターン膜がSiおよびSOIに導入する歪の分布評価 小瀬村 　 STARCシンポジウム 　
2007年9月 高移動度LSIに用いられるSiN歪印加膜の密度評価 斎藤
小瀬村、掛村、黒崎、吉田、武井、小椋、小金沢、広沢、鴻野、西田、中西
第4回SPring-8産業利用報告会 　
2007年9月 sc-SSOI（超臨界膜厚SSOI）の評価 吉田 小瀬村, 　掛村,　武井, 斎藤, 小椋,　志村, 小金澤, 広沢 第4回SPring-8産業利用報告会 　
2007年10月 太陽電池用シリコン結晶化技術とナノ制御 小椋 　 平成１９年度　神奈川県ものづくり技術交流会 招待講演
2007年10月 固体グリーンレーザーアニールで結晶化したpoly-Si薄膜のUV/可視ラマン分光法による評価 掛村 小瀬村、　吉田、　小椋 平成１９年度　神奈川県ものづくり技術交流会 　
2007年10月 sc-SSOI(超臨界膜厚SSOI)基板の歪分布・結晶性の評価 吉田 小瀬村、掛村、小椋 平成１９年度　神奈川県ものづくり技術交流会 　
2007年11月 スパッタによるTiNメタルゲートを有するMOSFET電気特性に関する研究 林田 柳、松川、遠藤、大内、坂本、昌原、石井、塚田、　石川、山内、小椋、鈴木 薄膜材料デバイス研究会　第4回研究集会 　
2007年12月 ひずみSiの現状と測定技術　－グローバルひずみを基礎としてローカルひずみへの挑戦 小椋 　 SEMIスタンダード関連プログラム 　
2007年12月 疑似線状光源を備えた高空間分解能UV／可視同軸ラマン 掛村 小瀬村、小椋 SEMIスタンダード関連プログラム 　
2008年1月 パターン依存酸化による歪シリコンナノワイヤトランジスタの相互コンダクタンス向上評価 清家 丹下 智之, 佐野 一拓, 杉浦 裕樹, 土田 育新, 小瀬村 大輔, 小椋 厚志, 大泊 巌 ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 第13回研究会 　
2008年2月 SiN 膜により導入された歪の熱処理特性評価 斎藤　博之 小椋　厚志 2007A期 SPring-8 重点産業利用課題成果報告会 　
2008年3月 放射光X 線トポグラフィによる歪みSi ウェーハの評価 志村考功 井上智之，岡本佑樹，細井卓治，小椋厚志，江戸太樹，飯田 敏，渡部平司 春季応用物理学関係連合講演会　シンポジウム：シリコン系材料・プロセス評価の最前線－放射光利用による新展開 招待講演
2008年3月 熱処理による極薄膜SiGe層の挙動 (2) 山本　有 上林　弘和, 今井　正人, 宮村　佳児,　表　和彦, 小林　峰, 小椋　厚志 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年3月 SiN膜により導入された歪の熱処理特性の評価 斉藤 博之 小瀬村 大亮 、掛村 康人 、吉田 哲也 、武井 宗久 、小椋 厚志 、小金沢 智之 、広沢 一郎 、鴻野 真之 、西田 辰夫 、中西 敏雄 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年3月 UVラマン分光法によるB2H6/Heプラズマドーピングで形成した極浅接合領域の結晶性の評価 吉田　哲也 渡邉　将光、中川　恭成、小瀬村　大亮、掛村　康人、角嶋　邦之、水野　文二、筒井　一生、服部　健雄、岩井　洋、小椋　厚志 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年3月 UV/可視ラマン分光法によるP dope LTPS薄膜の電気伝導度と結晶性の関係評価 掛村 康人 小瀬村 大亮,小椋 厚志, 野口 隆 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年3月 スパッタによるTiNゲートプレーナMOSFETとFinFET電気特性の比較評価 林田哲郎 柳永勛、松川貴、遠藤和彦、大内真一、坂本邦博、昌原明植、石井賢一、塚田順一、石川由紀、山内洋美、小椋厚志、鈴木英一 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年3月 ゲートラストプロセスで作成されたSiN膜及びeSiGeを有するMOSFETのチャネル歪評価 武井　宗久 小瀬村　大亮、小椋　厚志 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年3月 透明ダミーゲートを有したMOSFETチャネル領域に導入された歪のUVラマン解析 小瀬村　大亮 武井　宗久、小椋　厚志、鴻野　真之、西田　辰夫、中西　敏雄 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年3月 太陽電池用多結晶Si基板の欠陥および不純物の評価 今井啓太 田中聡志、立花福久、香川泰平、増田純一、小椋厚志、大下祥雄、新船幸二、河合秀昭、田島道夫、井上雅晶 春季応用物理学関係連合講演会 　
2008年4月 UV/可視ラマン分光法によるレーザー結晶化ポリシリコン薄膜の応力・結晶性の評価 掛村康人 小椋厚志、小瀬村大亮、・野口　隆 電子通信学会　シリコン材料・デバイス研究会 　
2008年5月 イオンビーム照射によるタイプIV コラーゲンの生体反応性制御 志賀雄一朗 小椋厚志、戸井田浩・氏家玲奈・鈴木嘉昭 第57回高分子学会年次大会 　
2008年6月 ダマシンゲートプロセスとローカル歪技術を用いた高性能 Metal/High-k gate MOSFET 黛哲 山川真弥，小瀬村大亮，武井宗久，舘下八州志，塚本雅則，若林 整，大野晃計，小椋厚志，長島直樹 日本学術振興会第１４５委員会　第１１４回研究会 　
2008年7月 ローカル歪技術を用いたダマシンゲートpMOSFETにおけるチャネル応力のゲートサイズ効果 黛哲 山川 真弥，小瀬村 大亮，武井 宗久，舘下 八州志，塚本 雅則，若林 整，大野 晃計，小椋 厚志，長島 直樹 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究集 　
2008年9月 薄膜SiGe層のXRDによる熱膨張係数のIn-situ測定 上林弘和 山本　有, 今井　正人, 宮村　佳児, 表　和彦, 小林　峰,　小椋　厚志 応用物理学会秋季学術講演会 　
2008年9月 ゲートラストプロセスで作製された高性能pMOSFETのチャネル内歪分布測定 武井宗久 小瀬村大亮、小椋厚志 応用物理学会秋季学術講演会 　
2008年9月 透明ダミーゲートを有したMOSFETにおける歪導入機構の解明 小瀬村大亮 武井宗久、永田晃基、赤松弘彬、小椋厚志,　鴻野真之、西田辰夫、中西敏雄 応用物理学会秋季学術講演会 　
2008年9月 Si 拡散によるフェルミレベルピニングの抑制のためのDLC 薄膜の特性評価 岩下祐太 足立哲也、伊高健治、知京豊裕, 小椋厚志 応用物理学会秋季学術講演会 　
2008年9月 Ar注入とSiN応力膜によるパターン付Si基板への歪記憶技術の検討 中山寛人 日野雅文, 永田 晃基, 吉田哲也, 小瀬村大亮 , 角嶋邦之, ﾊﾟｰﾙﾊｯﾄ･ｱﾍﾒﾄ, 筒井一生, 杉井信之, 小椋厚志2 服部健雄, 岩井洋 応用物理学会秋季学術講演会 　
2008年9月 4探針FinFETを用いた論理Vth可変CMOSインバーターの作製 柳永勛 林田、松川、遠藤、大内、坂本、関川、石井、塚田、石川、山内、小椋、鈴木、昌原 応用物理学会秋季学術講演会 　
2008年11月 Si・O2拡散によるフェルミレベルピニング抑制のための界面層材料の特性評価 岩下祐太 足立哲也、伊高健治、知京豊裕、小椋厚志 日本電子材料技術協会の秋季講演大会 　
2008年11月 歪計測技術の現状と期待 小椋厚志 　 つくば半導体コンソーシアム　半導体計測・評価技術ネットワーク第3回ワークショップ 　
2009年1月 (100)面もしくは(110)面上に作成された歪ナノワイヤトランジスタにおける相互コンダクタンスの向上評価 清家 綾 清家 綾, 土田 育新, 高井 一 , 小瀬村 大亮, 小椋 厚志, 渡邉 孝信, 大泊 巌 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 　
2009年1月 歪SiナノワイヤＦＥＴsの低温測定による電気伝導特性の評価 杉浦 裕樹 清家 綾, 土田 育新, 高井 一 , 小瀬村 大亮, 小椋 厚志, 渡邉 孝信, 大泊 巌 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 　
2009年3月 CVD法によるGaSbTe膜の堆積 石川真人 小椋厚志, 大下祥雄, 町田英明, 大場隆之 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 フォトルミネッセンス法による不純物定量法の高濃度領域への拡張 岩井 隆晃 田島 道夫2　小椋 厚志 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 高温熱処理時の雰囲気制御によるSiC表面あれ抑制 木下　真吾 小瀬村　大亮、小椋　厚志 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 PADOX法で印加されたSi-nanowire MOSFETの応力評価 小瀬村 大亮 増田 純一、清家 綾、丹下 智之、大泊 巌、小椋 厚志 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 堆積後SPA（Slot Plane Antenna:マイクロ波プラズマ）処理によるCVD酸化膜の改質 永田　晃基 赤松　弘彬、小瀬村　大亮、吉田　哲也、武井　宗久、服部　真季、小椋　厚志、　小金沢　智之、町田　雅武、孫　珍永、廣澤　一郎、　塩澤　俊彦、片山　大介、佐藤　吉宏、廣田　良浩 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 UVラマン分光法によるSTIプロセス中に生じる結晶ダメージと応力の評価 吉田 哲也 服部 真季1,  小瀬村 大亮1, 水越 俊和2, 小椋 厚志 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 UVラマン分光法によるSiO2/Si界面の評価 服部 真季 吉田 哲也, 小瀬村 大亮, 小椋 厚志、　諏訪 智之, 寺本 章伸, 服部 健雄, 大見 忠弘 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 UV ラマン分光によるSi表面のプラズマエッチングダメージの評価 黒崎 浩孝 赤松 弘彬，小瀬村 大亮，小椋 厚志，西村 栄一 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 歪SiナノワイヤFETsの低温測定による電気伝導特性の評価 杉浦裕樹 清家綾, 土田育新, 高井一,増田純一, 小瀬村大亮, 小椋厚志, 渡邉孝信, 大泊巌 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 UV-ラマン分光法による歪Si技術の評価 小椋　厚志 　 春季応用物理学関係連合講演会 招待講演
2009年3月 太陽電池用多結晶Si基板の応力と結晶性の評価 立花福久 増田純一、福田晃司、小椋厚志、大下祥雄、新船幸二 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 放射光Ⅹ線トポグラフィによる歪みSi ウェーハの歪み及び格子面傾斜揺らぎの２次元分布測定 志村考 井上智之，下川大輔，細井卓治，小椋厚志，渡部平司 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 ラマン分光測定による高濃度B ドープ LTPS薄膜の評価 掛村 康人 久保 貴志，小瀬村 大亮，小椋 厚志，野口 隆，鈴木俊治 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 歪Si ナノワイヤトランジスタにおける相互コンダクタンスの面方位及びチャネル方向依存性 高井 一 清家 綾，土田育新，杉浦祐樹，渡邉孝信，小瀬村大亮，小椋厚志，大泊巌 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009年3月 As注入とSiN応力膜によるpoly-Siへの歪記憶の検討 中山 寛人 日野 雅文, 永田 晃基, 小瀬村 大、角嶋 邦之, ﾊﾟｰﾙﾊｯﾄ ｱﾍﾒﾄ, 筒井 一生, 杉井 信之, 小椋 厚志, 服部 健雄, 岩井 洋 春季応用物理学関係連合講演会 　
2009/7/21日 Si (110) および (100) 面上の高圧縮応力が印加された短チャネルpFET における移動度と速度の向上効果 黛 哲 山川 真弥，小瀬村 大亮，武井 宗久，永田 晃基，赤松 弘彬, 甘利 浩一, 舘下 八州志, 若林 整，塚本 雅則，大野 晃計，斎藤 正樹，小椋 厚志，長島 直樹 応用物理学会　シリコンテクノロジー分科会 第115回研究集会 　
2009年9月 放射光Ⅹ線トポグラフィによるSGOIウェーハの歪み及び格子面傾斜揺らぎの２次元分布測定 志村考功 井上智之1，松宮拓也1，下川大輔1，細井卓治1，小椋厚志2，渡部平司 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009/9/10日 TDMATを用いたALD-TiNの熱処理効果およびゲート電極材料への応用 林田哲郎 遠藤和彦、柳永勛、亀井貴弘、松川貴、大内真一、坂本邦博、塚田順一、石川由紀、山内洋美、小椋厚志、昌原明植 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009/9/11日 ラマンピーク分離を用いたMOSFETの極微細(30nm - 200nm)チャネル歪測定 武井宗久 小瀬村大亮, 永田晃基, 赤松弘彬, 黛哲, 山川真弥, 若林整,　小椋厚志 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009/9/11日 プラズマ処理によるSOG酸化膜の熱処理後シュリンクの抑制メカニズム 永田　晃基 小瀬村　大亮、武井　宗久、赤松　弘彬、服部　真季、小椋　厚志、　小金沢　智之、町田　雅武、孫　珍永、廣澤　一郎、塩澤　俊彦、片山　大介、佐藤　吉宏、廣田　良浩 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009/9/11日 断面UV-ラマン分光測定による高性能pMOSFETのチャネル歪評価 赤松 弘彬 武井 宗久，小瀬村 大亮，永田 晃基，山川 真弥，黛 哲，若林 整、　小椋 厚志 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009/9/10日 太陽電池用多結晶Si基板中に存在するΣ9粒界の評価 増田純一 立花福久，小椋厚志，大下祥雄，新船幸二 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009/9/9日 ラマン偏光則に基づいた異方性２軸応力の評価 小瀬村大亮 武井宗久、永田晃基、赤松弘彬、清水良祐、小椋厚志 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009/9/8日 組成傾斜膜法によるDRAMキャパシタ用ZrO2系誘電体膜の材料探索 清田 祐司 伊高 健治，岩下 祐太，足立 哲也，知京 豊裕，小椋 厚志 応用物理学会秋季学術講演会 　
2009年10月 赤外分光法による多結晶シリコン中の軽元素定量測定法 小野 春彦 石塚 貴英、小椋 厚志 平成21年度　神奈川県ものづくり技術交流会 　
2009年11月 組成傾斜膜法によるDRAMキャパシタ用ZrO2系誘電体膜の材料探索 清田 祐司 伊高 健治，岩下 祐太，足立 哲也，知京 豊裕，小椋 厚志 日本電子材料技術協会第46回秋季講演大会 　
2009年12月 Blood Compatibility Control of Poly-L-Lactic Acid Modified by Ion-Beams Y. Shiga T. Tanaka, A. Ogura, R. Ujiie, H. Sakuragi, K. Mizutani, D. Mano and Y. Suzuki 日本MRS創立20周年記念シンポジウム 　
2009年12月 太陽電池用多結晶シリコン中の軽元素濃度と粒径との関係 石塚　貴英 小椋　厚志、　新船　幸二、　大下　祥雄、　小野　春彦 応用物理学会結晶工学分科会主催 ２００９年・年末講演会 　
2009年12月 Blood Compatibility Control of Poly-L-Lactic Acid Modified by Ion-Beams
Blood Compatibility Control of Poly-L-Lactic Acid Modified by Ion-Beams
 Y. Shiga T. Tanaka, A. Ogura, R. Ujiie, H. Sakuragi, K. Mizutani, D. Mano and Y. Suzuki 第19回日本MRS学術シンポジウム 　
2009年12月 Ion beam irradiation to poly(L-lactide-co-ε-caprolactone)　copolymer film for biocompatibility control Daisuke Mano Yuichiro Shiga, Atsushi Ogura, Toshiyuki Tanaka, Rena Ujiie, Kyouitiro Mizutani, Hitoshi Sakuragi,Yoshiaki Suzuki, Hiroshi Ujiie 第19回日本MRS学術シンポジウム