国内学会　00～03年 2011/4/11 更新
発表年月 タイトル 講演者 共著者 講演会名 備考
2000年3月 SIMOXウェハーにおける高温熱処理過程のPL評価（Ⅱ） 滝口 小椋、溝口、井深、田島 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 　
2000年6月 紫外光励起フォトルミネセンスによるSOIウエハーの評価 井深 田島、小椋　 日本学術振興会145委員会研究会 招待講演
2000年9月 低速陽電子によるＳＯＩの評価（Ⅰ）　－ＳＩＭＯＸプロセス 上殿 谷川、小椋、小野、鈴木、大平、三角 応用物理学会秋季学術講演会 　
2000年9月 ＭＯＣＶＤＯＣＶＤ法によるＴａＮ膜の堆積 星野 日色、町田、小椋、大下 応用物理学会秋季学術講演会 　
2000年9月 励起光の侵入長を変化させたＰＬによるＳＯＩウェハーの評価 滝口 小椋、熊藪、井深、田島 応用物理学会秋季学術講演会 　
2000年9月 低速陽電子によるＳＯＩの評価（Ⅱ）　－基板間比較 小椋 上殿、谷川 応用物理学会秋季学術講演会 　
2001年3月 X線回折法によるSIMOXのBOX形成過程野評価 細井 福田、志村、梅野、小椋 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 　
2001年3月 MOCVD法によるＨｆＯ2膜の堆積（Ⅰ） 鈴木 星野、町田、小椋、大下 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 　
2001年3月 MOCVD法によるＨｆＯ2膜の堆積（Ⅱ） 星野 鈴木、町田、忍田、小椋、大下 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 　
2001年4月 ＰＬおよび陽電子消滅による欠陥評価 小椋 田島、上殿 応用物理学会結晶工学分科会第１１３回研究会 招待講演
2001年6月 ＭＯＣＶＤ法によるＨｆＯ２膜の堆積 星野 鈴木、町田、小椋、大下 半導体・集積回路技術シンポジュウム 　
2001年6月 Hf(NEt2)4を原料ガスとして用いたＨｆＯ２薄膜の堆積 大下 小椋、星野、鈴木、町田 電子情報通信学会　シリコン材料・デバイス研究会 　
2001年9月 軽元素注入ダメージへの酸素析出を利用したSOI形成 小椋 　 応用物理学会秋季学術講演会 　
2001年9月 MOCVDによるＨｆＯ２膜の堆積　－シリケート成膜 町田 石川、星野、小椋、大下 応用物理学会秋季学術講演会 　
2001年9月 X線回折法によるnovel SIMOXのBOX層の構造評価 志村 細井、福田、梅野、小椋 応用物理学会秋季学術講演会 　
2001年10月 陽電子消滅によるＳＯＩ（Si-on-insulator）基板の評価 上殿 小椋、Chen、大平、鈴木、三角 京都大学原子炉実験所専門研究会「陽電子ビームの形成と理工学への応用」 　
2002年3月 低速陽電子ビームによるSOIウエハーの欠陥と水素の相互作用の研究 上殿 Chen、小椋、大平、鈴木、三角 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 　
2002年9月 軽元素注入法による部分ＳＯＩ／ＳＯＮの形成 小椋 　 応用物理学会秋季学術講演会　 　
2002年9月 Hf1-xSixO2成膜のためのCVD用Si原料 加田 石川、町田、小椋、大下 応用物理学会秋季学術講演会　 　
2002年 有機金属原料を用いたハフニウムシリケート薄膜ＣＶＤ 大下 石川、加田、町田、小椋 化学化工業会シンポジウム２００２ 　
2002年9月 せり上げ素子分離を用いたボディーコンタクト構造をもつ薄膜ＳＯＩ－ＭＯＳＦＥＴ 山上 黄、若林、李、斎藤、小椋、成広、新井、武村、山本、落合、最上 応用物理学会秋季学術講演会 　
2003年3月 「基板浮遊効果を抑制したゲート長60nm薄膜SOI-MOSFET 山上 黄、若林、李、斎藤、小椋、成広、新井、武村、竹内、落合、最上 応用物理学会 春季応用物理学関係連合講演会 　
2003年3月 レーザーコンフォーカル検査システムを用いた市販超薄膜ＳＯＩ基板の評価 小椋 岡林 春季応用物理学関係連合講演会 　
2003年 LSI開発の現状と今後の課題 小椋 　 Spring-8 講習会 招待講演
2003年5月 先端デバイス開発動向とＳＯＩ基板への期待 小椋 　 結晶成長学会　バルク分科会研究会 招待講演
2003年 市販ＳＯＩ基板中欠陥の分布および構造解析 小椋 岡林 日本学術振興会「結晶加工と評価技術」第145委員会　第 97回研究会 　
2003年8月 低速陽電子ビームによるpoly-Si/HfSiOx/Si構造の空孔型欠陥の検出 上殿 服部、小椋、工藤、西川、大平、鈴木、三角 応用物理学会秋季学術講演会 　
2003年8月 MOCVD法によるNiSi（Ⅰ）―原料 加田 石川、大平、町田、小椋、大下 応用物理学会秋季学術講演会 　
2003年8月 MOCVD法によるNiSi（Ⅱ）―成膜 石川 加田、町田、小椋、大下 応用物理学会秋季学術講演会 　
2003年8月 Nonuniformity of SOI Wafers Manifested by Photoluminescence and Lifetime Mapping 李 田島、住江、橋爪、小椋 応用物理学会秋季学術講演会 　
2003年12月 陽電子消滅による金属酸化物の欠陥の解析 上殿 服部、小椋、工藤、西川、大平、鈴木、三角 第3回インテリジェント・ナノプロセス研究会 　
2003年12月 低速陽電子ビームによるHigh-kをゲート絶縁膜として用いたMOSの評価 上殿 服部、小椋、工藤、西川、大平、鈴木、三角 京都大学原子炉実験所専門研究会