国内学会　14〜15年				2016/12/26 更新
発表年月	タイトル	講演者	共著者	講演会名	備考
2014年1月23日	ラマン分光測定による先端LSIの歪み計測	小椋厚志		「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 (第19回研究会)ショートコース	招待講演
2014年1月24日	PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性の変化	栗島一徳	生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋 厚志	「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 (第19回研究会)
2014年1月24日	ルチル型TiO<sub>2</sub>緩衝層を用いたHigh-k/Ge界面構造制御に関する研究	長田貴弘	小橋 和義, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋 厚志, 知京 豊裕	「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 (第19回研究会)
2014年3月17日	多結晶シリコン結晶粒界における不純物分布と再結合活性に対する界面構造の影響	小島拓人	立花福久，小島信晃，大下祥雄，新船幸二，小椋厚志，山口真史	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月17日	スパッタ法により成膜したAlOx膜のパッシベーション特性	上田圭吾	吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月17日	クロージング「結晶シリコン太陽電池の今後の展望」	小椋厚志		第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	微小角入射X線小角散乱及び広角散乱によるSiO2薄膜中の短距離秩序性の評価	永田晃基	徳武寛紀，長坂将也，小椋厚志，廣沢一郎，諏訪智之，寺本章伸，服部健雄，大見忠弘	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	High-k/SiO2界面のダイポール層形成メカニズムの考察 −多重極子誘起酸素移動モデルの提案−	志村昂亮	栗山亮，橋口誠広，高橋隆介，小椋厚志，佐藤真一，渡邉孝信	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	結晶Si太陽電池表面パッシベーションにおける積層構造の検討	勝又隆晶	池野成裕，佐藤真一，吉田晴彦，新船幸二，知京豊裕，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	SrxSiOx+2層の化学組成と膜中固定電荷の相関	谷脇将太	豊嶋祐樹，堀田育志，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	ルチル型TiO2界面層を用いたHfO2/Ge界面構造制御	小橋和義	長田貴弘，生田目俊秀，山下良之，小椋厚志，知京豊裕	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	表面増強ラマン散乱を用いた歪Si異方性二軸応力のパターンサイズ依存測定	岩崎竜平	永田晃基，小瀬村大亮，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	局在プラズモン共鳴を用いたトランジスタチャネル領域最表面のラマン評価	木嶋隆浩	小瀬村大亮，シティノルヒダヤーモハメドユゾフ，山本章太郎，今井亮祐，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	MOCVD法によるGeエピタキシャル成長	須田耕平	石原聖也，町田英明，石川真人，須藤弘，大下祥雄，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月18日	タッピングAFM−チップ増強ラマン分光測定の最適化	福原陽亮	吉村雅満，小瀬村大亮，小椋厚志，神津知己，後藤千絵，川口哲成	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	結晶シリコン太陽電池における高いPID耐性を有する反射防止膜の検討	三科健	大岸厚文，池野成裕，上野清志，猿渡哲也，原浩二郎，小椋厚志，土井卓也，山崎敏晴，増田淳	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	ラマン分光法による多結晶シリコン薄膜の結晶性分布評価	安川裕政	富田基裕，小瀬村大亮，山崎英之，富田充裕，臼田宏治，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	チップ増強ラマン分光法による歪Si評価	小瀬村大亮	富田基裕，シティノルヒダヤーチェモハマドユソフ，後藤千絵，川口哲成，三澤真弓，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	表面増強ラマン分光法による歪SiGe薄膜のLO/TOフォノン励起	山本章太郎	小瀬村大亮，シティノルヒダヤーモハマドユソフ，木嶋隆浩，今井亮佑，臼田宏治，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	超解像ラマン分光法による微細加工歪SiGe層に生じる応力緩和の高空間分解能2次元分布評価	富田基裕	小瀬村大亮，臼田宏治，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	炉内ガス雰囲気に依存した離型剤と溶融シリコンの界面特性	李建永	KarolinJiptner，木村隆，関口隆史，原田博文，宮村佳児，柿本浩一，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	太陽電池用多結晶Si中における小角粒界の偏光PLイメージング解析	加藤言	田島道夫，豊田裕之，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	高濃度・高補償比Si結晶で形成される不純物帯のPL解析	田中香次	田島道夫，豊田裕之，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	熱拡散法によるn型シリコン太陽電池のエミッタ層設計	原田顕	中村京太郎，倉知郁夫，吉岡献太郎，池野成裕，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月19日	PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性	栗島一徳	生田目俊秀，清水麻希，相川慎也，塚越一仁，大井暁彦，知京豊裕，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月20日	ポストアニール処理によるHfO2/SiOx/Si(100)構造のSiOxの膜厚制御	豊嶋祐樹	澤本直美，谷脇将太，池野成裕，堀田育志，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年3月20日	銀ナノ粒子による電場増強効果を用いたGaN最表面のラマン測定	今井亮佑	小瀬村大佑，シティノルヒダヤーモハマドユソフ，木嶋隆浩，山本章太郎，小椋厚志	第６１回応用物理学会春季学術講演会
2014年5月13日	イオンビームと電子ビームによる多結晶Siの二次電子像の比較	関口 隆史	陳 君 、渡辺 健太郎 、木村 隆、李 建永、小椋 厚志	日本顕微鏡学会 第70回記念学術講演会
2014年9月17日	PLD 法による Sr2SiO4多結晶体ターゲットを用いた Sr2SiO4薄膜のSi 基板上への作製	今西啓司	谷脇将太，堀田育志，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月17日	AlOx/Si 前駆体のポストアニール処理によるAlOx/SiOx構造の作製	三宅省三	豊嶋祐樹，堀田育志，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月17日	SiNx/Si 構造の電気特性におけるファイヤースルー処理の影響	榎本裕也	高柳　暢，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月18日	ラマン分光法による高温スパッタ堆積 MoS2膜の評価	石原聖也	須田耕平，澤本直美，大橋　匠，山口晋平，松浦賢太朗，若林　整，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月18日	炭素添加した InSiO チャネル材料の特性	栗島一徳	生田目俊秀，三苫伸彦，木津たきお，塚越一仁，澤田朋実，大井暁彦，山本逸平，大石知司，知京豊裕，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月18日	高温スパッタリング法による MoS2膜の形成と電気特性	松浦賢太朗	大橋　匠，山口晋平，須田耕平，石原聖也，澤本直美，角嶋邦之，杉井信之，西山　彰，片岡好則，名取研二，筒井一生，岩井　洋，小椋厚志，若林　整	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月18日	高温スパッタリング法における MoS2薄膜化と電気特性	大橋　匠	山口晋平，松浦賢太朗，須田耕平，石原聖也，澤本直美，角嶋邦之，杉井信之，西山　彰，片岡好則，名取研二，筒井一生，岩井　洋，小椋厚志，若林　整	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月18日	多結晶シリコン中の窒素酸素複合体の熱処理挙動	佐藤邦孝	小椋厚志，小野春彦	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月18日	キャスト成長多結晶シリコン中の酸素析出物分布と粒界との関係	宇野　匠	佐藤邦孝，小椋厚志，小野春彦	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	分子動力学法による high-k/SiO2界面のダイポール形成シミュレーション　−正負両方向のダイポール層の再現−	志村昂亮	橋口誠広，功刀遼太，小椋厚志，佐藤真一，渡邉孝信	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	Si ナノワイヤの Ni シリサイド化速度へのポスト酸化アニールの影響	セイ ソン	橋本修一郎，小杉山洋希，武井康平，麻田修平，徐　泰宇，若水　昂，今井亮佑，徳武寛紀，松川　貴，富田基裕，小椋厚志，昌原明植，渡邉孝信	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	液浸ラマン分光法を用いた TO/LOフォノンスペクトル励起による高 Ge濃度歪 SiGe メサ構造の異方性 2 軸応力緩和の観測	山本章太郎	小瀬村大亮，富田基裕，武内一真，横川　凌，臼田宏冶，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	EBSP 法を用いた微細な歪 SiGe メサ構造に生じる応力緩和分布の Ge 濃度依存性評価	富田基裕	小瀬村大亮，臼田宏治，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	液浸ラマン分光法による選択的イオン注入により作製された一軸歪 SiGe/Siの異方性 2軸応力評価	山本章太郎	小瀬村大亮，富田基裕，武内一真，横川　凌，米倉瑛介，澤野憲太郎，野平博司，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	MOCVD 法による Ge エピタキシャル成長 (2)	須田耕平	石原聖也，澤本直美，町田英明，石川真人，須藤　弘，大下祥雄，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	MOCVD 法によるGe 基板上での Ge1-xSnxエピタキシャル成長	須田耕平	石原聖也，澤本直美，町田英明，石川真人，須藤　弘，大下祥雄，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	ミスト CVD 法により製膜した AlOx膜のパッシベーション性能	井口功嗣	北野　奨，三木祥平，小椋厚志，吉田晴彦，佐藤真一，新船幸二	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	熱アニールによる ALD-AlOx膜のパッシベーション特性変化	今枝博紀	三木祥平，小椋厚志，吉田晴彦，佐藤真一，新船幸二	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	ALD 法で成膜したAlOxパッシベーションのバンド構造評価	池野成裕	山下祥弘，陰地　宏，三木祥平，新船幸二，吉田晴彦，佐藤真一，廣沢一郎，知京豊裕，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	結晶 Si 太陽電池における SiN パッシベーション膜および界面の X 線による 評価	山下祥弘	池野成裕，立花福久，大下祥雄，小椋厚志	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月19日	SrO 終端のSi(100)2×1再構成基板上に成長した SrxSiOx+2薄膜の電気特性	谷脇将太	今西啓司，堀田育志，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月20日	High-k/ High-k 界面におけるダイポール形成の可能性の検討	橋口誠広	志村昂亮，功刀遼太，知京豊裕，小椋厚志，佐藤真一，渡邉孝信	第75回応用物理学会秋季学術講演会
2014年9月24日	RuO2シードを用いたPE-ALD法で作製したRuO2膜の特性	澤田朋実	生田目俊秀, Thang Duy DAO, 山本逸平, 栗島一徳, 大井暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾忠昭	日本金属学会　2014　秋季大会
2014年9月24日	TMA原料によるRutile-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性	山本逸平	大石知司, 生田目俊秀, 澤田朋実, 大井暁彦, 栗島一徳, Thang Duy DAO, 長尾忠昭, 知京豊裕, 小椋 厚志	日本金属学会　2014　秋季大会
2014年11月13日	多結晶シリコンにおける粒内欠陥の室温フォトルミネッセンス解析	原慎一	池野成裕, 鈴木涼太, 小椋厚志	応用物理学会 結晶工学分科会主催 第3回　結晶工学未来塾
2015年1月30日	SiO2/Si界面の結晶性劣化によるSiナノワイヤのニッケル化速度の上昇	武井康平	小杉山 洋希, 橋本 修一郎, ソン セイ, 麻田 修平, 徐 泰宇, 若水 昂, 今井 亮佑, 徳武 寛紀, 富田 基裕, 小椋 厚志, 松川 貴, 昌原 明植, 渡邉 孝信	「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第20回）
2015年1月30日	CドープしたInSiOチャネル材料の電気特性及び物性に及ぼすCの影響	栗島一徳	生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石 知司, 知京 豊裕, 小椋 厚志	「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第20回）
2015年1月30日	High-k/SiO2界面のダイポール層がチャネル垂直方向電界に与える影響	志村昂亮	橋口 誠広, 功刀 遼太, 小椋 厚志, 佐藤 真一, 渡邉 孝信	「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第20回）
2015年1月30日	TMA/H2O-ALD法によるRutile-TiO2膜へ酸素欠損の形成による電気特性	山本逸平	生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋 厚志, 大石 知司	「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第20回）
2015年1月30日	Ge上ルチル型TiO2_High-k層へのYドープ濃度の依存性	鈴木良尚	長田 貴弘, 山下 良之, 小橋 和義, 生田目 俊秀, 小椋 厚志, 知京 豊裕	「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第20回）
2015年1月30日	GeおよびGe1-xSnxのMOCVD法によるエピタキシャル成長	須田耕平	木嶋 隆浩, 石原 聖也, 澤本 直美, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 小椋 厚志	「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第20回）
2015年3月11日	高Ge濃度SiGeにおけるフォノン変形ポテンシャルの導出	武内一真	小瀬村 大亮, 山本 章太郎, 富田 基裕, 臼田 宏治, 小椋 厚志	第６2回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月11日	高Ge濃度歪SiGeメサ構造に印加された異方性2軸応力評価	山本章太郎	武内 一真, 富田 基裕, 小瀬村 大亮, 臼田 宏冶, 小椋 厚志	第６2回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月11日	EBSP法を用いた微細な全Ge濃度域における歪SiGeメサ構造に生じる応力緩和分布の評価	富田基裕	小瀬村 大亮, 臼田 宏治, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月11日	局在プラズモン共鳴を用いたラマン分光法におけるひずみSi表面のAg粒子被覆率と信号増強の関係	木嶋隆浩	山本 章太郎, 横川 凌, 武内 一真, 村上 達美, 小瀬村 太亮, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月11日	MOCVD法によるGe基板上でのGe1-xSnxエピタキシャル成長 (2)	須田耕平	木嶋 隆浩, 石原 聖也, 澤本 直美, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月11日	シリコン窒化膜製膜時に導入される結晶欠陥層のライフタイムの算出	立花福久	小島 拓人, 高井 大輔, 小椋 厚志, 大下 祥雄	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月11日	結晶Si太陽電池表面パッシベーションにおける積層構造の検討	池野成裕	勝又 隆晶, 山下 祥弘, 佐藤 真一, 吉田 晴彦, 新船 幸二, 知京 豊裕, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月11日	金属Alの熱酸化で形成したAlOx/Si界面状態および固定電荷密度	池野成裕	山下 祥弘, 勝又 隆晶, 知京 豊裕, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月12日	高濃度Si結晶のフォトルミネッセンススペクトルの系統的変	中川 啓	田島 道夫, 豊田 裕之, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月12日	スパッタ堆積MoS2膜の下地平坦化による電気特性向上	大橋 匠	山口 晋平, 松浦 賢太朗, 須田 耕平, 石原 聖也, 澤本 直美, 角嶋 邦之, 杉井 信之, 西山 彰, 片岡 好則, 名取 研二, 筒井 一生,岩井 洋, 小椋 厚志, 若林 整	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月12日	偏光PLイメージングによる太陽電池用多結晶Siの欠陥評価	栗島一徳	生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実,　大井 暁彦, 山本 逸平, 大石 知司, 知京　豊裕, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月12日	2種類のHigh-k材料とSiOxを用いた三色超構造の作成	三宅 省	豊嶋 祐樹, 上岡 聡史, 堀田　育志, 吉田 晴彦, 新船 幸二, 小椋 厚志, 佐藤 真一	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月12日	太陽電池用多結晶Si中のサーマルドナー関連欠陥に起因する深い準位のフォトルミネッセンス	樋口史仁	佐藤 邦孝, 加藤 言, 田島 道夫, 小野 春彦, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月13日	フォトルミネッセンスによる太陽電池用Si結晶評価	田島道夫	加藤 言, 中川 啓, 豊田 裕之, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月13日	偏光PLイメージングによる太陽電池用多結晶Siの欠陥評価	加藤 言	田島 道夫, 豊田 裕之, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月13日	分子動力学法によるhigh-k/SiO2界面のダイポール形成シミュレーション（２） −酸素密度緩和モデルで説明できないMgO/SiO2界面ダイポールの再現−	功刀遼太	橋口 誠広, 志村 昴亮, 小椋 厚志, 佐藤 真一, 渡邉 孝信	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月13日	大面積MoS2膜形成に向けたMoの硫化プロセスの検討	松浦賢太朗	大橋 匠, 山口 晋平, 須田 耕平, 石原 聖也, 澤本 直美, 角嶋 邦之, 杉井 信之, 西山 彰, 片岡 好則, 名取 研二, 筒井 一生, 岩井 洋, 小椋 厚志, 若林 整	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月14日	ゲート絶縁膜耐圧不良のラマン分光法による原因評価	横川 凌	富田 基裕, 水越 俊和, 平野 雄大, 草野 健一郎, 佐々木 克弘, 小椋 厚志	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月14日	Ge上ルチル型TiO2層へのアクセプタドープによる絶縁性向上の試み	鈴木良尚	長田 貴弘, 山下 良之, チナマトゥ パウルサミー, 小橋 和義, 生田目 俊秀, 小椋 厚志, 知京 豊裕	第６２回応用物理学会春季学術講演会
2015年3月17日	硬X線光電子分光法による最先端LSIおよび太陽電池の材料評価			SPring-8 次世代先端デバイス研究会（第2回） ‐硬X線光電子分光（HAXPES）によるデバイス評価‐	招待講演
2015年3月18日	TMA原料によるAnatase-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性	山本逸平	生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, Thang Duy DAO, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋 厚志 芝浦工大 大石 知司	日本金属学会　2015年春季講演大会
2015年3月18日	反応性スパッタリング法によるMoドープした酸化スズ膜の形成	澤田朋実	生田目 俊秀, 石井 智, Thang Duy DAO, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石 知司, 小椋 厚志, 長尾 忠昭	日本金属学会　2015年春季講演大会
2015年7月29日	Controlling Nickel Silicidation Process of Si Nanowires by Ar+ Ion Irradation	Kohei Takei	Shuichiro Hashimoto, Jing Sun, Shuhei Asada, Xu Zhang, Taiyu Xu, Toshihiro Usuda, Motohiro Tomita, Ryosuke Imai, Atsushi Ogura	The 6th NIMS/MANA-Waseda University International Symposium
2015年9月13日	UV 励起光源を用いたラマン分光法及びライフタイム測定による多結晶シリコン薄膜の評価	横川 凌	鈴木 貴博, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月13日	MOCVD 法によるGe 基板上でのGe1-xSnx エピタキシャル成長 (3)	須田耕平	石原 聖也, 澤本 直美, 町田 英明,　石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 臼田 宏治, 広沢　一郎, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月13日	液浸ラマン分光法によるGe 基板上Ge1-xSnx 薄膜の応力評	武内一真	山本 章太郎, 横川 凌, 澤本 直美,　須田 耕平, 石原 聖也, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月14日	Ar+ イオン照射によるSi ナノワイヤのNi 合金化プロセスの制	張 旭	橋本 修一郎, 武井 康平, ソン セイ, 徐　泰宇, 麻田 修平, 臼田 稔宏, 富田 基裕, 今井　亮佑, 小椋 厚志, 松川貴, 昌原 明植,　渡邉 孝信	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月14日	硬X 線光電子分光法（HAXPES） によるゲルマニウムスズ薄膜の深さ方向化学結合状態評価	臼田宏治	高石 理一郎, 吉木 昌彦, 須田 耕平, 小椋 厚志, 富田 充裕	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	硫黄粉末アニールの減圧化によるスパッタMoS2 薄膜の結晶性向	松浦賢太朗	大橋 匠, 石原 聖也, 澤本　直美, 日比野 祐介, 須田 耕平, 角嶋 邦之, 筒井　一生, 小椋 厚志, 若林　整	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	多結晶シリコン中の粒界上に形成された酸素・窒素析出	宇野 匠	小椋 厚志, 小野 春彦	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	PL イメージングによるn 型多結晶Si 中の小角粒界におけるキャリア再結合と金属不純物の影響評価	鈴木涼太	池野 成裕, 立花 福久, 大下 祥雄, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	結晶Si 太陽電池の断面仕事関数測定に適した観察面研磨手法の検討	山田郁彦	須田 耕平, 神岡 武文, 中村　京太郎, 小椋 厚志, 大下 祥雄, 神谷 格	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	AlOx パッシベーション膜の構造と固定電荷密度の関係	北野 奨	三木 悠生, 井口 功嗣, 三木 祥平, 池野 成裕, 山下 祥弘, 小椋 厚志, 吉田 晴彦, 佐藤　真一, 前田 光治, 新船 幸二	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	電子ビーム蒸着Mo 薄膜の(t-C4H9)2S2 を用いた硫化による層状MoS2 の形成	日比野祐介	石原 聖也, 澤本 直美, 大橋 匠,　松浦 賢太郎, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 若林 整, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	スパッタリング法と有機原料を用いた硫化アニールによる単層MoS2 薄膜の作製	石原聖也	日比野 祐介, 澤本 直美, 須田 耕平, 大橋 匠, 松浦 賢太郎, 町田 英明, 石川 真人,　須藤 弘, 若林 整, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月15日	C ドープIn-Si-O TFT のNBTI 及びPBTI 特性の改善	栗島一徳	生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石 知司, 知京 豊裕, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月16日	EBSP 法を用いたSiGe/Ge ナノワイヤー構造に生じる応力緩和分布の高空間分解能測定	富田基裕	武内 一真, 山本 章太郎, 小瀬村　大亮, 臼田 宏治, 小椋 厚志	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月16日	分子動力学法および分子軌道法を用いたSiGe 混晶内の原子間ポテンシャルに関する考察	富田基裕	小椋 厚志, 渡邉 孝信	第76回応用物理学会秋季学術講演会
2015年9月16日	TMA原料によるanatase-TiO2膜への酸素欠損導入のメカニズムの解明	山本逸平	生田目 俊秀, 澤田 朋美, 大井 暁彦, 栗島 一徳, Thang Duy DAO, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋 厚志, 大石 知司	2015年日本金属学会秋期講演大会
2015年9月18日	TiO2/Al2O3/TiO2スタック絶縁膜を用いたMIMキャパシタの電気特性に対するAl2O3膜厚の影響	澤田朋実	生田目 俊秀, Thang Duy DAO, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 大石 知司, 小椋 厚志, 長尾 忠昭	2015年日本金属学会秋期講演大会
2015年10月29日	MOCVD法によるGe1-xSnx成長における水素の影響	須田耕平	澤本 直美, 武内 一真, 石原 聖也, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 小椋 厚志	第4回　結晶工学未来塾
2015年10月29日	ラマン分光法およびX線反射率法を用いた熱酸化SiO2薄膜の物理的評価	徳武寛紀	小椋 厚志, 諏訪 智之, 寺本 章伸	第4回　結晶工学未来塾
2015年12月5日	TiO2/Ge 界面のGe拡散による影響	鈴木良尚	長田 貴弘, 山下 良之, 生田目 俊秀, 小椋 厚志, 知京 豊裕	第25回日本MRS年次大会