| 国内学会 12〜13年 | 2014/2/13 更新 | |||||
| 発表年月 | タイトル | 講演者 | 共著者 | 講演会名 | 備考 | |
| 2012年1月7日 | マイクロＸ線回折によるローカル歪みSi の歪み分布計測 | 今井康彦 | 
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第25回放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム | ||
| 2012年1月20日 | 名 high-k / SiO2 界面におけるダイポール形成が太陽電池表面キャリア再結合に与える影響 | 池野成裕 | 立花福久,、長田貴弘、 Lee Hyunju、 小椋厚志 、知京豊裕 | ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─ 第17回研究会研究報告 | ||
| 2012年1月21日 | Sub-μmサイズひずみSOI層の液浸Ramanによる異方性ひずみ緩和評価 | 臼田 宏治 | 手塚 勉、小瀬村 大亮、富田 基裕、 小椋 厚志 | ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─ 第18回研究会研究報告 | ||
| 2012年3月15日 | ナノテクノロジーにおける埋もれた界面の解析のニーズとソリューション | 知京豊裕 | 長田貴弘，生田目俊秀，小橋和義，池野成裕，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月15日 | スカベンジング効果を用いた HfO2/Si 界面における SiO2 の薄膜化 | 小橋和義 | 長田貴弘，池野成裕，小椋厚志，知京豊裕 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月16日 | Te化法によるGeSbTe膜の高アスペクト比ホール内組成制御 | 須田耕平 | 堀池喬文，浜田せいち，宇納知寛，町田英明，石川真人，須藤 弘，有馬 進，河野有美子，大下祥雄，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月16日 | TiNゲートプロセスがFinFETの移動度及びばらつきに及ぼす影響 | 林田哲郎 | 遠藤和彦，Yongxun Liu，大内真一，松川 貴，水林 亘，右田真司，森田行則，太田裕之，橋口裕樹，小瀬村大亮，亀井貴弘，安川裕政，塚田順一，石川由紀，山内洋美，小椋厚志，昌原明植 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月16日 | 瞬時熱酸化により改善したIPD膜を用いたNOR型Tri-Gateフラッシュメモリの作製及び電気特性評価 | 亀井貴弘 | Yongxun Liu2，松川 貴2，遠藤和彦2，大内真一2，塚田順一2，山内洋美2，石川由紀2，林田哲郎1，坂本邦博2，小椋厚志1，昌原明稙 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月16日 | Double-GateとTri-Gate構造を用いたFinFETフラッシュメモリ電気特性の比較評価 | Yongxun Liu | 亀井貴弘，松川 貴，遠藤和彦，大内真一，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，坂本邦博，小椋厚志，昌原明植 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月16日 | 微細な三角形状トンネル領域を持つFloating-Gate型MOSキャパシタの作製及び電気特性評価 | Yongxun Liu | 郭 若峰，亀井貴弘，松川 貴，遠藤和彦，大内真一，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，坂本邦博，小椋厚志，昌原明植 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | ALD-AlOxパッシベーションによる界面歪の評価 |
立花福久 | 池野成裕，新船幸二，吉田晴彦，知京豊裕，小椋厚志，佐藤真一 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | 熱アニールによる室温堆積ALD-AlOx 膜のパッシベーション特性変化 |
三木祥平 | 中村亮太，新船幸二，松谷亮佑，浜野純平，吉田晴彦，立花福久，小椋厚志，大下祥雄，佐藤真一 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | 100μm厚結晶シリコン太陽電池の研究開発 |
大下祥雄 | 小島拓人，青木真理，立花福久，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | 大粒径多結晶シリコンにおける軽元素の析出挙動 | 李 建永 | 関口隆史，原田博文，宮村佳児，陳 君，大下祥雄，柿本浩一，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | 疑似単結晶シリコン中の軽元素不純物が結晶欠陥に与える影響 |
立花福久 | 楠木宏毅，土屋佑樹，鮫島 崇，小島拓人，新船幸二，柿本浩一，宮村佳児，原田博文，関口隆史，大下祥雄，小野春彦，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | シードキャスト法における種結晶シリコンからの酸素不純物の混 | 楠木宏毅 | 立花福久，小島拓人，大下祥雄，小椋厚志，小野春彦 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | 強制汚染およびリンゲッタリングによる多結晶Si中の鉄およびニッケルの挙動 | 宮崎直人 | 土屋佑樹，鮫島 崇，立花福久，小島拓人，大下祥雄，新船幸二，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | PLによる太陽電池用高補償比Si結晶のドナー・アクセプタ不純物定量 |
田中香次 | 田島道夫，小椋厚志，Sbastien Dubois，Jordi Veirman | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月17日 | 多結晶Siセルにおける深い準位の高速フォトルミネッセンス分光イメージング法 |
岡山 太 | 田島道夫，豊田裕之，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月18日 | 液浸ラマン分光法による歪SiGe の異方性応力評価 | 小瀬村大亮 | 富田基裕，臼田宏治，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年3月18日 | 有限要素法による微細構造歪SiGe層の異方性応力緩和評価 | 富田基裕 | 小瀬村大亮，臼田宏治，小椋厚志 | 2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会 | ||
| 2012年7月30日 | 擬似単結晶シリコン中の種結晶から混入する酸素の濃度分布 | 楠木 宏毅 | 立花 福久、小椋 厚志、小野 春彦 | 太陽電池材料開発の現在と未来 -第5回半導体若手ワークショップ- | ||
| 2012年9月11日 | 100μm太陽電池技術開発の現状 | 大下祥雄 | 小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月11日 | イオンシャワー注入法を用いた太陽電池の作製および評価 | 橋口裕樹 | 立花福久，青木真理，小島拓人，大下祥雄，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月12日 | 微小角入射X線回折による熱酸化およびラジカル酸化SiO2薄膜中の結晶様構造の評価 | 永田晃基 | 山口拓也，小椋厚志，小金澤智之，廣澤一郎，諏訪智之，寺本章伸，服部健雄，大見忠弘 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月12日 | 低温CVD 成膜されたSiO2における水素ラジカル処理の効果 |
土屋佑樹 | 池野成裕，山口拓也，鈴木 摂，石橋啓司，長田貴弘，新船幸二，吉田晴彦，佐藤真一，知京豊裕，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月12日 | 溌液結晶化法により作製した結晶シリコンインゴットの評価 | 立花福久 | 土屋佑樹，宮崎直人，櫻木史郎，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月12日 | 10cm径mono cast Si結晶成長 | 宮村佳児 | 原田博文，Karolin Jiptner，陳 君，李 建永，Ronit Prakash，関口隆史，小島拓人，大下祥雄，小椋厚志，福澤理行，中野 智，高 冰，柿本浩一 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月12日 | 多結晶シリコン粒界における酸化誘起ストレス分布：分子動力学法による解析 | 栗山 亮 | 橋口誠広，青木直成，富田将典，図師知文，小椋厚志，渡邉孝信 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月12日 | 多結晶シリコンにおける軽元素析出物のカソードルミネッセンス分析 |
李 建永 | Ronit Roneel Prakash，Dierre Benjamin，陳 君，関口隆史，原田博文，宮村佳児，大下祥雄，柿本浩一，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月12日 | PLによる高補償比Si結晶の残留ドナー・アクセプタ不純物定量 | 田中香次 | 田島道夫，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | 局所表面プラズモン共鳴を用いたラマン分光法による歪Si基板の応力評価 | 橋口裕樹 | 武井宗久，小瀬村大亮，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | EBSP法を用いたSiGe/Siメサ構造における異方性応力緩和評価 | 長坂将也 | 富田基裕，小瀬村大亮，臼田宏治，手塚 勉，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | ラマン分光法による超薄膜SOIフォノン閉じ込めの評価 | 武井宗久 | 橋口裕樹，小瀬村大亮，内藤大明，黒澤裕也，内田 建，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | SSOI微細構造における異方性応力緩和の膜厚依存性評価 | シティノルヒダヤー チェモハマドユソフ | 富田基裕，小瀬村大亮，臼田宏治，手塚 勉，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | 有限要素法による微細構造歪SSOI層の応力緩和に対する膜厚依存性の評価 | 富田基裕 | 小瀬村大亮，臼田宏治，手塚 勉，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | スプリットゲート型ポリシリコンチャネルFinFETフラッシュメモリの作製及び電気特性評価 | Yongxun Liu | 亀井貴弘，松川 貴，遠藤和彦，大内真一，塚田順一，山内洋美，石川由紀，林田哲郎，坂本邦博，小椋厚志，昌原明植 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | 不純物注入レスプロセスにより形成したひずみGeナノワイヤ メタルソース・ドレインpMOSFET (I) -ひずみGeナノワイヤチャネルのホール移動度特性- | 池田圭司 | 小野瑞城，小瀬村大亮，臼田宏治，小田 穣，上牟田雄一，入沢寿史，守山佳彦，小椋厚志，手塚 勉 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | 不純物注入レスプロセスにより形成したひずみGeナノワイヤ メタルソース・ドレインpMOSFET (II) -メタルソース・ドレインによる寄生抵抗低減効果と短チャネルデバイス特性評価- |
池田圭司 | 小野瑞城，小瀬村大亮，臼田宏治，小田 穣，上牟田雄一，入沢寿史，守山佳彦，小椋厚志，手塚 勉 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | 微細構造Si1-xGexに印加された異方性応力の加工形状およびGe濃度依存性 | 小瀬村大亮 | 富田基裕，臼田宏治，手塚 勉，小椋厚志 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | 高NA、油浸ラマン分光によるメサ分離ひずみSGOI層の異方性ひずみ評価 | 臼田宏治 | 小瀬村太亮，富田基裕，小椋厚志，手塚 勉 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年9月13日 | SrSiOx/Si(100)界面に誘起される固定電荷の評価 | 堀田育志 | 今中淳弘，豊嶋祐樹，谷脇将太，佐々木翼，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一 | 第73回応用物理学会学術会議 | ||
| 2012年10月25日 | 微小角入射X線回折法を用いたSiO2薄膜中の結晶相の評価 | 永田晃基 | 山口拓也、小椋厚志、小金澤智之、廣澤一郎、諏訪智之、寺本章伸、服部健雄、大見忠弘 | 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（SDM） | ||
| 2013年3月27日 | MOCVD 法によるGeSn 膜の堆積 | 須田 耕平 | 宇納 知寛，宮川 達也，町田 英明，石川 真人，須藤 弘，大下 祥雄，小椋 厚志 | 第60回応用部物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月28日 | Si(100)基板表面極近傍の酸化誘起残留歪の光電子分光による検出 | 諏訪智之 | 寺本章伸，大見忠弘，室隆桂之,木下豊彦, 永田晃基，小椋厚志，服部健雄 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月28日 | プラズマ励起ALD SiN 膜構造における応力評価 | 長坂 将也 | 永田 晃基、山口 拓也、小椋 厚志、陰地 宏、孫 珍永、広沢 一郎、渡部 佳優、廣田 良浩 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月29日 | aSi:H/cSi ヘテロ接合太陽電池のデバイスモデルとVoc のi 層厚依存性 | 林 豊 | Debin Li, 大下祥雄 ，小椋厚志 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月29日 | 細構造歪SiGe 層に生じる応力緩和分布のテンソル評価 | 富田 基裕 | 小瀬村 大亮、臼田 宏治、小椋 厚志 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月29日 | SrSiOX/Si 構造の熱安定性と電気特性の評価 | 谷脇 将太 | 豊島 祐樹，堀田 育志, 吉田 晴彦, 新船 幸二, 小椋 厚志, 佐藤 真一 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月29日 | Detailed Study on the c-Si Surface Passivation Mechanism of O3-Based Batch | Hyunju Lee | Tomihisa Tachibana, Norihiro Ikeno, Hiroki Hashiguchi, Yuki Tsuchiya, Koji Arafune, Haruhiko Yoshida, Shin-ichi Satoh, Toyohiro Chikyow, Atsushi Ogura | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月29日 | 室温堆積ALD-AlOx 膜のパッシベーション特性に及ぼす初期酸化界面の影響 | 酒井智香子 | 山本俊輔、三木祥平、新船 幸二、堀田育志、吉田晴彦、小椋厚志、佐藤真一 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月29日 | UV 照射によるALD-AlOx 膜のパッシベーション特性変化 | 酒井智香子 | 漆畑孝、三木祥平、新船 幸二、堀田育志、吉田晴彦、小椋厚志、佐藤真一 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | 回収シリコン粉末原料の再結晶化に及ぼす酸素の影響 | 佐藤 邦孝 | 藤井 寿，本泉 佑，高木 眞一，米原 崇広，柳 基典，楠木 宏毅，小椋 厚志，小野 春彦 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | 多結晶Si ウエハー中の小角粒界の顕微フォトルミネッセンス解析 | 岡山 太 | 宮崎 直人，平野 梨伊，田島 道夫，豊田 裕之，小椋 厚志 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | 太陽電池用多結晶Si における小角粒界のフォトルミネッセンス解析 | 加藤 言 | 岡山 太，徳丸 慎司，佐藤 力樹，豊田裕之，田島 道夫，小椋 厚志 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | 顕微EL イメージングによる多結晶Si 中粒界の電気的特性の定量評価 | 沓掛健太朗 | 宮崎直人, 鮫島崇, 立花福久, 小椋厚志, 大野裕, 徳本有紀, 宇佐美徳隆, 米永一郎 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | 太陽電池用多結晶Si 中の小角粒界における鉄汚染の影響 | 船越 正輝 | 宮崎 直人, 土屋 佑樹, 立花 福久, 大下祥雄 , 新船幸二, 小椋厚志 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | 太陽電池用鋳造多結晶シリコン中のSiNx不純物の析出 | 李 建永 | Ronit Roneel Prakash, Dierre Benjamin, 陳 君, 関口 隆史，原田 博文，宮村 佳児，大下 祥雄，柿本 浩一，小椋 厚志 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | HfO2/SiO2 及びY2O3/SiO2 構造の作製条件最適化 | 豊嶋 祐樹 | 谷脇 将太, 堀田 育志, 吉田 晴彦, 新船 幸二, 小椋 厚志, 佐藤 真一 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年3月30日 | 高補償比B, P, Ga 添加Si 結晶のフォトルミネッセンス解析 | 田中 香次 | 田島 道夫，Maxime Forster, 豊田 裕之, 小椋 厚志 | 第60回応用物理学会春季学術講演会 | ||
| 2013年6月18日 | HfO2/Ge界面へのルチル型TiO2挿入によるGeOx生成の抑制 | 小橋和義 | 長田貴弘、生田目俊秀、山下良之、小椋厚志、知京豊裕 | 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 | ||
| 2013年9月16日 | 高濃度・高補償比Si結晶中のドナー・アクセプタ不純物の振舞 | 田中香次 | 田島道夫，Maxime Foster，豊田裕之，小椋厚志 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月16日 | 太陽電池用多結晶シリコンの極低温遠赤外吸収測定 | 佐藤邦孝 | 宇野匠，小椋厚志，小野春彦 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月17日 | AlファイヤースルーペーストとAl2O3パッシベーション膜を用いた裏面構造の形成 | 立花福久 | 池野成裕，青木真理，大下祥雄，小椋厚志，佐藤真一，川本裕介，吉野泰 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月17日 | 分子動力学シミュレーションによるAl2O3/SiO2界面のダイポール層の再現 | 栗山亮 | 橋口誠広，高橋隆介，小椋厚志，佐藤真一，渡邉孝信 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月17日 | Al2O3/SiO2 界面のダイポールが誘起するチャネル内の静電界 | 橋口誠広 | 栗山亮，高橋隆介，小椋厚志，佐藤真一，渡邉孝信 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月18日 | Ge濃度SGOIワイヤーの異方性ひずみ評価 | 臼田宏治 | 池田圭司，小瀬村太亮，富田基裕，小椋厚志，手塚勉 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月19日 | ミストCVD法により製膜したAlOx膜のパッシベーション特性 | 井口功嗣 | 三木祥平，今枝博紀，酒井智香子，吉田晴彦，堀田育志，小椋厚志，佐藤真一，新船幸二 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月19日 | 結晶シリコン太陽電池用a-SiNXパッシベーション特性の屈折率依存 | 山本俊輔 | 漆畑孝，酒井智香子，吉田晴彦，堀田育志，小椋厚志，佐藤真一，新船幸二 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月19日 | SrO/Si構造のアニール処理によって作製したSrSiOx層の化学組成 | 谷脇将太 | 豊嶋祐樹，堀田育志，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月19日 | XPSを用いたHfO2/SiおよびY2O3/Siアニール界面の構造解析 | 豊嶋祐樹 | 谷脇将太，堀田育志，吉田晴彦，新船幸二，小椋厚志，佐藤真一 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月19日 | 表面プラズモン共鳴を用いたラマン分光法によるSi微小領域の異方性二軸応力評価 | 岩崎竜平 | 永田晃基，富田基裕，小瀬村大亮，小椋厚志 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月20日 | Analysis of Electrical Field in Surface Enhanced Raman Spectroscopy Using Strained-Si Substrate | シティノルヒダヤー チェモハマドユソフ | 小瀬村大亮，木嶋隆浩，小椋厚志 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月20日 | 有限要素法による異種の構造から導入される重畳応力の評価 | 富田基裕 | 小瀬村大亮，小椋 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||
| 2013年9月20日 | 液浸ラマン分光法による高Ge濃度圧縮歪SiGeメサ構造/Ge基板からのLO,TOフォノンスペクトルの観測 | 小瀬村大亮 | 富田基裕，臼田宏治，手塚勉，小椋厚志 | 第74回応用物理学会秋季学術講演会 | ||