国内学会 14〜15年 | 2016/12/26 更新 | |||||||||
発表年月 | タイトル | 講演者 | 共著者 | 講演会名 | 備考 | |||||
2014年1月23日 | ラマン分光測定による先端LSIの歪み計測 | 小椋厚志 |
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「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 (第19回研究会)ショートコース | 招待講演 | |||||
2014年1月24日 | PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性の変化 | 栗島一徳 | 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋 厚志 | 「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 (第19回研究会) | ||||||
2014年1月24日 | ルチル型TiO<sub>2</sub>緩衝層を用いたHigh-k/Ge界面構造制御に関する研究 | 長田貴弘 | 小橋 和義, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋 厚志, 知京 豊裕 | 「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 (第19回研究会) | ||||||
2014年3月17日 | 多結晶シリコン結晶粒界における不純物分布と再結合活性に対する界面構造の影響 | 小島拓人 | 立花福久,小島信晃,大下祥雄,新船幸二,小椋厚志,山口真史 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月17日 | スパッタ法により成膜したAlOx膜のパッシベーション特性 | 上田圭吾 | 吉田晴彦,新船幸二,小椋厚志,佐藤真一 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月17日 | クロージング「結晶シリコン太陽電池の今後の展望」 | 小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | |||||||
2014年3月18日 | 微小角入射X線小角散乱及び広角散乱によるSiO2薄膜中の短距離秩序性の評価 | 永田晃基 | 徳武寛紀,長坂将也,小椋厚志,廣沢一郎,諏訪智之,寺本章伸,服部健雄,大見忠弘 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | High-k/SiO2界面のダイポール層形成メカニズムの考察 −多重極子誘起酸素移動モデルの提案− | 志村昂亮 | 栗山亮,橋口誠広,高橋隆介,小椋厚志,佐藤真一,渡邉孝信 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | 結晶Si太陽電池表面パッシベーションにおける積層構造の検討 | 勝又隆晶 | 池野成裕,佐藤真一,吉田晴彦,新船幸二,知京豊裕,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | SrxSiOx+2層の化学組成と膜中固定電荷の相関 | 谷脇将太 | 豊嶋祐樹,堀田育志,吉田晴彦,新船幸二,小椋厚志,佐藤真一 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | ルチル型TiO2界面層を用いたHfO2/Ge界面構造制御 | 小橋和義 | 長田貴弘,生田目俊秀,山下良之,小椋厚志,知京豊裕 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | 表面増強ラマン散乱を用いた歪Si異方性二軸応力のパターンサイズ依存測定 | 岩崎竜平 | 永田晃基,小瀬村大亮,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | 局在プラズモン共鳴を用いたトランジスタチャネル領域最表面のラマン評価 |
木嶋隆浩 | 小瀬村大亮,シティノルヒダヤーモハメドユゾフ,山本章太郎,今井亮祐,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | MOCVD法によるGeエピタキシャル成長 | 須田耕平 | 石原聖也,町田英明,石川真人,須藤弘,大下祥雄,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月18日 | タッピングAFM−チップ増強ラマン分光測定の最適化 | 福原陽亮 | 吉村雅満,小瀬村大亮,小椋厚志,神津知己,後藤千絵,川口哲成 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | 結晶シリコン太陽電池における高いPID耐性を有する反射防止膜の検討 | 三科健 | 大岸厚文,池野成裕,上野清志,猿渡哲也,原浩二郎,小椋厚志,土井卓也,山崎敏晴,増田淳 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | ラマン分光法による多結晶シリコン薄膜の結晶性分布評価 | 安川裕政 | 富田基裕,小瀬村大亮,山崎英之,富田充裕,臼田宏治,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | チップ増強ラマン分光法による歪Si評価 | 小瀬村大亮 | 富田基裕,シティノルヒダヤーチェモハマドユソフ,後藤千絵,川口哲成,三澤真弓,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | 表面増強ラマン分光法による歪SiGe薄膜のLO/TOフォノン励起 | 山本章太郎 | 小瀬村大亮,シティノルヒダヤーモハマドユソフ,木嶋隆浩,今井亮佑,臼田宏治,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | 超解像ラマン分光法による微細加工歪SiGe層に生じる応力緩和の高空間分解能2次元分布評価 | 富田基裕 | 小瀬村大亮,臼田宏治,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | 炉内ガス雰囲気に依存した離型剤と溶融シリコンの界面特性 | 李建永 | KarolinJiptner,木村隆,関口隆史,原田博文,宮村佳児,柿本浩一,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | 太陽電池用多結晶Si中における小角粒界の偏光PLイメージング解析 | 加藤言 | 田島道夫,豊田裕之,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | 高濃度・高補償比Si結晶で形成される不純物帯のPL解析 | 田中香次 | 田島道夫,豊田裕之,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | 熱拡散法によるn型シリコン太陽電池のエミッタ層設計 | 原田顕 | 中村京太郎,倉知郁夫,吉岡献太郎,池野成裕,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月19日 | PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性 | 栗島一徳 | 生田目俊秀,清水麻希,相川慎也,塚越一仁,大井暁彦,知京豊裕,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月20日 | ポストアニール処理によるHfO2/SiOx/Si(100)構造のSiOxの膜厚制御 | 豊嶋祐樹 | 澤本直美,谷脇将太,池野成裕,堀田育志,吉田晴彦,新船幸二,小椋厚志,佐藤真一 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年3月20日 | 銀ナノ粒子による電場増強効果を用いたGaN最表面のラマン測定 | 今井亮佑 | 小瀬村大佑,シティノルヒダヤーモハマドユソフ,木嶋隆浩,山本章太郎,小椋厚志 | 第61回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2014年5月13日 | イオンビームと電子ビームによる多結晶Siの二次電子像の比較 | 関口 隆史 | 陳 君 、渡辺 健太郎 、木村 隆、李 建永、小椋 厚志 | 日本顕微鏡学会 第70回記念学術講演会 | ||||||
2014年9月17日 | PLD 法による Sr2SiO4多結晶体ターゲットを用いた Sr2SiO4薄膜のSi 基板上への作製 |
今西啓司 | 谷脇将太,堀田育志,吉田晴彦,新船幸二,小椋厚志,佐藤真一 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月17日 | AlOx/Si 前駆体のポストアニール処理によるAlOx/SiOx構造の作製 |
三宅省三 | 豊嶋祐樹,堀田育志,吉田晴彦,新船幸二,小椋厚志,佐藤真一 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月17日 | SiNx/Si 構造の電気特性におけるファイヤースルー処理の影響 | 榎本裕也 | 高柳 暢,吉田晴彦,新船幸二,小椋厚志,佐藤真一 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月18日 | ラマン分光法による高温スパッタ堆積 MoS2膜の評価 | 石原聖也 | 須田耕平,澤本直美,大橋 匠,山口晋平,松浦賢太朗,若林 整,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月18日 | 炭素添加した InSiO チャネル材料の特性 | 栗島一徳 |
生田目俊秀,三苫伸彦,木津たきお,塚越一仁,澤田朋実,大井暁彦,山本逸平,大石知司,知京豊裕,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月18日 | 高温スパッタリング法による MoS2膜の形成と電気特性 | 松浦賢太朗 | 大橋 匠,山口晋平,須田耕平,石原聖也,澤本直美,角嶋邦之,杉井信之,西山 彰,片岡好則,名取研二,筒井一生,岩井 洋,小椋厚志,若林 整 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月18日 | 高温スパッタリング法における MoS2薄膜化と電気特性 | 大橋 匠 | 山口晋平,松浦賢太朗,須田耕平,石原聖也,澤本直美,角嶋邦之,杉井信之,西山 彰,片岡好則,名取研二,筒井一生,岩井 洋,小椋厚志,若林 整 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月18日 | 多結晶シリコン中の窒素酸素複合体の熱処理挙動 | 佐藤邦孝 | 小椋厚志,小野春彦 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月18日 | キャスト成長多結晶シリコン中の酸素析出物分布と粒界との関係 | 宇野 匠 | 佐藤邦孝,小椋厚志,小野春彦 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | 分子動力学法による high-k/SiO2界面のダイポール形成シミュレーション −正負両方向のダイポール層の再現− | 志村昂亮 | 橋口誠広,功刀遼太,小椋厚志,佐藤真一,渡邉孝信 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | Si ナノワイヤの Ni シリサイド化速度へのポスト酸化アニールの影響 | セイ ソン |
橋本修一郎,小杉山洋希,武井康平,麻田修平,徐 泰宇,若水 昂,今井亮佑,徳武寛紀,松川 貴,富田基裕,小椋厚志,昌原明植,渡邉孝信 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | 液浸ラマン分光法を用いた TO/LOフォノンスペクトル励起による高 Ge濃度歪 SiGe メサ構造の異方性 2 軸応力緩和の観測 | 山本章太郎 | 小瀬村大亮,富田基裕,武内一真,横川 凌,臼田宏冶,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | EBSP 法を用いた微細な歪 SiGe メサ構造に生じる応力緩和分布の Ge 濃度依存性評価 | 富田基裕 | 小瀬村大亮,臼田宏治,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | 液浸ラマン分光法による選択的イオン注入により作製された一軸歪 SiGe/Siの異方性 2軸応力評価 |
山本章太郎 | 小瀬村大亮,富田基裕,武内一真,横川 凌,米倉瑛介,澤野憲太郎,野平博司,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | MOCVD 法による Ge エピタキシャル成長 (2) |
須田耕平 | 石原聖也,澤本直美,町田英明,石川真人,須藤 弘,大下祥雄,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | MOCVD 法によるGe 基板上での Ge1-xSnxエピタキシャル成長 | 須田耕平 | 石原聖也,澤本直美,町田英明,石川真人,須藤 弘,大下祥雄,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | ミスト CVD 法により製膜した AlOx膜のパッシベーション性能 | 井口功嗣 | 北野 奨,三木祥平,小椋厚志,吉田晴彦,佐藤真一,新船幸二 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | 熱アニールによる ALD-AlOx膜のパッシベーション特性変化 | 今枝博紀 | 三木祥平,小椋厚志,吉田晴彦,佐藤真一,新船幸二 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | ALD 法で成膜したAlOxパッシベーションのバンド構造評価 | 池野成裕 | 山下祥弘,陰地 宏,三木祥平,新船幸二,吉田晴彦,佐藤真一,廣沢一郎,知京豊裕,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | 結晶 Si 太陽電池における SiN パッシベーション膜および界面の X 線による 評価 |
山下祥弘 | 池野成裕,立花福久,大下祥雄,小椋厚志 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月19日 | SrO 終端のSi(100)2×1再構成基板上に成長した SrxSiOx+2薄膜の電気特性 | 谷脇将太 | 今西啓司,堀田育志,吉田晴彦,新船幸二,小椋厚志,佐藤真一 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月20日 | High-k/ High-k 界面におけるダイポール形成の可能性の検討 | 橋口誠広 | 志村昂亮,功刀遼太,知京豊裕,小椋厚志,佐藤真一,渡邉孝信 | 第75回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2014年9月24日 | RuO2シードを用いたPE-ALD法で作製したRuO2膜の特性 | 澤田朋実 | 生田目俊秀, Thang Duy DAO, 山本逸平, 栗島一徳, 大井暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾忠昭 | 日本金属学会 2014 秋季大会 | ||||||
2014年9月24日 | TMA原料によるRutile-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性 | 山本逸平 | 大石知司, 生田目俊秀, 澤田朋実, 大井暁彦, 栗島一徳, Thang Duy DAO, 長尾忠昭, 知京豊裕, 小椋 厚志 | 日本金属学会 2014 秋季大会 | ||||||
2014年11月13日 | 多結晶シリコンにおける粒内欠陥の室温フォトルミネッセンス解析 | 原慎一 | 池野成裕, 鈴木涼太, 小椋厚志 | 応用物理学会 結晶工学分科会主催 第3回 結晶工学未来塾 |
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2015年1月30日 | SiO2/Si界面の結晶性劣化によるSiナノワイヤのニッケル化速度の上昇 | 武井康平 | 小杉山 洋希, 橋本 修一郎, ソン セイ, 麻田 修平, 徐 泰宇, 若水 昂, 今井 亮佑, 徳武 寛紀, 富田 基裕, 小椋 厚志, 松川 貴, 昌原 明植, 渡邉 孝信 | 「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回) | ||||||
2015年1月30日 | CドープしたInSiOチャネル材料の電気特性及び物性に及ぼすCの影響 | 栗島一徳 | 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石 知司, 知京 豊裕, 小椋 厚志 | 「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回) | ||||||
2015年1月30日 | High-k/SiO2界面のダイポール層がチャネル垂直方向電界に与える影響 | 志村昂亮 | 橋口 誠広, 功刀 遼太, 小椋 厚志, 佐藤 真一, 渡邉 孝信 | 「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回) | ||||||
2015年1月30日 | TMA/H2O-ALD法によるRutile-TiO2膜へ酸素欠損の形成による電気特性 | 山本逸平 | 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋 厚志, 大石 知司 | 「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回) | ||||||
2015年1月30日 | Ge上ルチル型TiO2_High-k層へのYドープ濃度の依存性 | 鈴木良尚 | 長田 貴弘, 山下 良之, 小橋 和義, 生田目 俊秀, 小椋 厚志, 知京 豊裕 | 「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回) | ||||||
2015年1月30日 | GeおよびGe1-xSnxのMOCVD法によるエピタキシャル成長 | 須田耕平 | 木嶋 隆浩, 石原 聖也, 澤本 直美, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 小椋 厚志 | 「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回) | ||||||
2015年3月11日 | 高Ge濃度SiGeにおけるフォノン変形ポテンシャルの導出 | 武内一真 | 小瀬村 大亮, 山本 章太郎, 富田 基裕, 臼田 宏治, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月11日 | 高Ge濃度歪SiGeメサ構造に印加された異方性2軸応力評価 | 山本章太郎 | 武内 一真, 富田 基裕, 小瀬村 大亮, 臼田 宏冶, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月11日 | EBSP法を用いた微細な全Ge濃度域における歪SiGeメサ構造に生じる応力緩和分布の評価 | 富田基裕 | 小瀬村 大亮, 臼田 宏治, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月11日 | 局在プラズモン共鳴を用いたラマン分光法におけるひずみSi表面のAg粒子被覆率と信号増強の関係 | 木嶋隆浩 | 山本 章太郎, 横川 凌, 武内 一真, 村上 達美, 小瀬村 太亮, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月11日 | MOCVD法によるGe基板上でのGe1-xSnxエピタキシャル成長 (2) | 須田耕平 | 木嶋 隆浩, 石原 聖也, 澤本 直美, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月11日 | シリコン窒化膜製膜時に導入される結晶欠陥層のライフタイムの算出 | 立花福久 | 小島 拓人, 高井 大輔, 小椋 厚志, 大下 祥雄 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月11日 | 結晶Si太陽電池表面パッシベーションにおける積層構造の検討 | 池野成裕 | 勝又 隆晶, 山下 祥弘, 佐藤 真一, 吉田 晴彦, 新船 幸二, 知京 豊裕, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月11日 | 金属Alの熱酸化で形成したAlOx/Si界面状態および固定電荷密度 | 池野成裕 | 山下 祥弘, 勝又 隆晶, 知京 豊裕, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月12日 | 高濃度Si結晶のフォトルミネッセンススペクトルの系統的変 | 中川 啓 | 田島 道夫, 豊田 裕之, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月12日 | スパッタ堆積MoS2膜の下地平坦化による電気特性向上 | 大橋 匠 | 山口 晋平, 松浦 賢太朗, 須田 耕平, 石原 聖也, 澤本 直美, 角嶋 邦之, 杉井 信之, 西山 彰, 片岡 好則, 名取 研二, 筒井 一生,岩井 洋, 小椋 厚志, 若林 整 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月12日 | 偏光PLイメージングによる太陽電池用多結晶Siの欠陥評価 | 栗島一徳 | 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石 知司, 知京 豊裕, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月12日 | 2種類のHigh-k材料とSiOxを用いた三色超構造の作成 | 三宅 省 | 豊嶋 祐樹, 上岡 聡史, 堀田 育志, 吉田 晴彦, 新船 幸二, 小椋 厚志, 佐藤 真一 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月12日 | 太陽電池用多結晶Si中のサーマルドナー関連欠陥に起因する深い準位のフォトルミネッセンス | 樋口史仁 | 佐藤 邦孝, 加藤 言, 田島 道夫, 小野 春彦, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月13日 | フォトルミネッセンスによる太陽電池用Si結晶評価 | 田島道夫 | 加藤 言, 中川 啓, 豊田 裕之, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月13日 | 偏光PLイメージングによる太陽電池用多結晶Siの欠陥評価 | 加藤 言 | 田島 道夫, 豊田 裕之, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月13日 | 分子動力学法によるhigh-k/SiO2界面のダイポール形成シミュレーション(2) −酸素密度緩和モデルで説明できないMgO/SiO2界面ダイポールの再現− | 功刀遼太 | 橋口 誠広, 志村 昴亮, 小椋 厚志, 佐藤 真一, 渡邉 孝信 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月13日 | 大面積MoS2膜形成に向けたMoの硫化プロセスの検討 | 松浦賢太朗 | 大橋 匠, 山口 晋平, 須田 耕平, 石原 聖也, 澤本 直美, 角嶋 邦之, 杉井 信之, 西山 彰, 片岡 好則, 名取 研二, 筒井 一生, 岩井 洋, 小椋 厚志, 若林 整 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月14日 | ゲート絶縁膜耐圧不良のラマン分光法による原因評価 | 横川 凌 | 富田 基裕, 水越 俊和, 平野 雄大, 草野 健一郎, 佐々木 克弘, 小椋 厚志 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月14日 | Ge上ルチル型TiO2層へのアクセプタドープによる絶縁性向上の試み | 鈴木良尚 | 長田 貴弘, 山下 良之, チナマトゥ パウルサミー, 小橋 和義, 生田目 俊秀, 小椋 厚志, 知京 豊裕 | 第62回応用物理学会春季学術講演会 | ||||||
2015年3月17日 | 硬X線光電子分光法による最先端LSIおよび太陽電池の材料評価 | SPring-8 次世代先端デバイス研究会(第2回) ‐硬X線光電子分光(HAXPES)によるデバイス評価‐ | 招待講演 | |||||||
2015年3月18日 | TMA原料によるAnatase-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性 | 山本逸平 | 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, Thang Duy DAO, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋
厚志 芝浦工大 大石 知司 |
日本金属学会 2015年春季講演大会 | ||||||
2015年3月18日 | 反応性スパッタリング法によるMoドープした酸化スズ膜の形成 | 澤田朋実 | 生田目 俊秀, 石井 智, Thang Duy DAO, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石 知司, 小椋 厚志, 長尾 忠昭 | 日本金属学会 2015年春季講演大会 | ||||||
2015年7月29日 | Controlling Nickel Silicidation Process of Si Nanowires by Ar+ Ion Irradation | Kohei Takei | Shuichiro Hashimoto, Jing Sun, Shuhei Asada, Xu Zhang, Taiyu Xu,
Toshihiro Usuda, Motohiro Tomita, Ryosuke Imai, Atsushi Ogura |
The 6th NIMS/MANA-Waseda University International Symposium | ||||||
2015年9月13日 | UV 励起光源を用いたラマン分光法及びライフタイム測定による多結晶シリコン薄膜の評価 | 横川 凌 | 鈴木 貴博, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月13日 | MOCVD 法によるGe 基板上でのGe1-xSnx エピタキシャル成長 (3) | 須田耕平 | 石原 聖也, 澤本 直美, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 臼田 宏治, 広沢 一郎, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月13日 | 液浸ラマン分光法によるGe 基板上Ge1-xSnx 薄膜の応力評 | 武内一真 | 山本 章太郎, 横川 凌, 澤本 直美, 須田 耕平, 石原 聖也, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月14日 | Ar+ イオン照射によるSi ナノワイヤのNi 合金化プロセスの制 | 張 旭 | 橋本 修一郎, 武井 康平, ソン セイ, 徐 泰宇, 麻田 修平, 臼田 稔宏, 富田 基裕, 今井 亮佑, 小椋 厚志, 松川貴, 昌原 明植, 渡邉 孝信 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月14日 | 硬X 線光電子分光法(HAXPES) によるゲルマニウムスズ薄膜の深さ方向化学結合状態評価 | 臼田宏治 | 高石 理一郎, 吉木 昌彦, 須田 耕平, 小椋 厚志, 富田 充裕 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | 硫黄粉末アニールの減圧化によるスパッタMoS2 薄膜の結晶性向 | 松浦賢太朗 | 大橋 匠, 石原 聖也, 澤本 直美, 日比野 祐介, 須田 耕平, 角嶋 邦之, 筒井 一生, 小椋 厚志, 若林 整 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | 多結晶シリコン中の粒界上に形成された酸素・窒素析出 | 宇野 匠 | 小椋 厚志, 小野 春彦 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | PL イメージングによるn 型多結晶Si 中の小角粒界におけるキャリア再結合と金属不純物の影響評価 | 鈴木涼太 | 池野 成裕, 立花 福久, 大下 祥雄, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | 結晶Si 太陽電池の断面仕事関数測定に適した観察面研磨手法の検討 | 山田郁彦 | 須田 耕平, 神岡 武文, 中村 京太郎, 小椋 厚志, 大下 祥雄, 神谷 格 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | AlOx パッシベーション膜の構造と固定電荷密度の関係 | 北野 奨 | 三木 悠生, 井口 功嗣, 三木 祥平, 池野 成裕, 山下 祥弘, 小椋 厚志, 吉田 晴彦, 佐藤 真一, 前田 光治, 新船 幸二 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | 電子ビーム蒸着Mo 薄膜の(t-C4H9)2S2 を用いた硫化による層状MoS2 の形成 | 日比野祐介 | 石原 聖也, 澤本 直美, 大橋 匠, 松浦 賢太郎, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 若林 整, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | スパッタリング法と有機原料を用いた硫化アニールによる単層MoS2 薄膜の作製 | 石原聖也 | 日比野 祐介, 澤本 直美, 須田 耕平, 大橋 匠, 松浦 賢太郎, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 若林 整, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月15日 | C ドープIn-Si-O TFT のNBTI 及びPBTI 特性の改善 | 栗島一徳 | 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石 知司, 知京 豊裕, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月16日 | EBSP 法を用いたSiGe/Ge ナノワイヤー構造に生じる応力緩和分布の高空間分解能測定 | 富田基裕 | 武内 一真, 山本 章太郎, 小瀬村 大亮, 臼田 宏治, 小椋 厚志 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月16日 | 分子動力学法および分子軌道法を用いたSiGe 混晶内の原子間ポテンシャルに関する考察 | 富田基裕 | 小椋 厚志, 渡邉 孝信 | 第76回応用物理学会秋季学術講演会 | ||||||
2015年9月16日 | TMA原料によるanatase-TiO2膜への酸素欠損導入のメカニズムの解明 | 山本逸平 | 生田目 俊秀, 澤田 朋美, 大井 暁彦, 栗島 一徳, Thang Duy DAO, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋 厚志, 大石 知司 | 2015年日本金属学会秋期講演大会 | ||||||
2015年9月18日 | TiO2/Al2O3/TiO2スタック絶縁膜を用いたMIMキャパシタの電気特性に対するAl2O3膜厚の影響 | 澤田朋実 | 生田目 俊秀, Thang Duy DAO, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 大石 知司, 小椋 厚志, 長尾 忠昭 | 2015年日本金属学会秋期講演大会 | ||||||
2015年10月29日 | MOCVD法によるGe1-xSnx成長における水素の影響 | 須田耕平 | 澤本 直美, 武内 一真, 石原 聖也, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 大下 祥雄, 小椋 厚志 |
第4回 結晶工学未来塾 | ||||||
2015年10月29日 | ラマン分光法およびX線反射率法を用いた熱酸化SiO2薄膜の物理的評価 | 徳武寛紀 | 小椋 厚志, 諏訪 智之, 寺本 章伸 | 第4回 結晶工学未来塾 | ||||||
2015年12月5日 | TiO2/Ge 界面のGe拡散による影響 | 鈴木良尚 | 長田 貴弘, 山下 良之, 生田目 俊秀, 小椋 厚志, 知京 豊裕 | 第25回日本MRS年次大会 |